[发明专利]一种面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构

权利要求书

1.一种面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构，其特征在于：包括了纹素信息获取模块1、纹理坐标的处理模块2、过滤模式对纹素地址的修正模块3、边框对纹素地址的修正模块4及纹素取值模块5；

所述纹素信息获取模块1用于获取纹素信息，包括纹理类型以及纹理坐标(s,t,r)，纹理坐标对应的环绕模式、纹理过滤模式、纹理的宽度、高度以及深度，边框值；

所述纹理坐标的处理模块2用于不同环绕模式下纹理坐标的修正，并对于落在环绕模式要求的范围外的纹理坐标进行标记；

所述过滤模式对纹素地址的修正模块3用于计算不同过滤模式下的纹素地址，并且在各自过滤模式下分别对不同环绕模式的纹素地址进行修正；

所述边框对纹素地址的修正模块4用于计算不同边框设置的纹素地址，修正方法为纹素地址加边框值为修正后的纹素地址；

所述纹素取值模块5用于对当前判断纹素取值是纹理图像还是设置的边框颜色常量，并进行对应取值。

2.根据权利要求1所述的面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构，其特征在于：所述纹素信息获取模块1获取纹理类型以及纹理坐标(s,t,r)，纹理坐标对应的环绕模式、纹理过滤模式、纹理的宽度、高度以及深度，边框值，并通过判断纹理类型，

将纹理坐标、对应的环绕模式，以及对应的纹理维度通过TLM接口发送给纹理坐标的处理模块2，

将过滤模式、环绕模式、纹理维度通过TLM接口发送给过滤模式对纹素地址的修正模块3，

将边框值通过TLM接口发送给边框对纹素地址的修正模块4。

3.根据权利要求1所述的面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构，其特征在于：

所述纹理坐标的处理模块2收到纹素信息获取模块1发送纹理坐标、环绕模式和纹理维度，

根据纹理环绕模式和纹理维度计算纹理坐标的范围，对于在范围外的坐标进行纹理坐标范围标记，并对纹理坐标进行修正；

将修正后的纹理坐标和范围标记通过TLM接口发送给过滤模式对纹素地址的修正模块3。

4.根据权利要求1所述的面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构，其特征在于：

所述过滤模式对纹素地址的修正模块3收到纹素信息获取模块1发送的过滤模式、环绕模式、纹理维度，和纹理坐标的处理模块2发送的修正后的纹理坐标和范围标记，

首先判断过滤模式，并计算修正纹素地址，

并将修正后的维度纹素地址通过TLM接口发送给边框对纹素地址的修正模块4。

5.根据权利要求4所述的面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构，其特征在于：

所述过滤模式对纹素地址的修正模块3包括GL_NEAREST模式纹素修正子模块31和GL_LINEAR模式纹素修正子模块32；

判断过滤模式后，选择对应的子模块，

所述GL_NEAREST模式纹素修正子模块31接收到纹素信息获取模块1发送的过滤模式、纹理维度，和纹理坐标的处理模块2发送的修正后的纹理坐标，对纹素地址进行计算和修正；

所述GL_LINEAR模式纹素修正子模块32接收到纹素信息获取模块1发送的过滤模式、环绕模式、纹理维度，和纹理坐标的处理模块2发送的修正后的纹理坐标和范围标记，对纹素地址进行计算和修正。

6.根据权利要求1所述的面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构，其特征在于：

所述边框对纹素地址的修正模块4收到纹素信息获取模块1发送的边框值，以及过滤模式对纹素地址的修正模块3发送的修正后的维度纹素地址，

用边框值对纹素地址进行边框修正，

并将修正后的维度纹素地址通过TLM接口发送给纹素取值模块5。

7.根据权利要求1所述的面向GPU硬件纹素取值方法的TLM微结构，其特征在于：

所述纹素取值模块5接收到边框对纹素地址的修正模块4发送的修正后的维度纹素地址进行纹素取值标记判断，

用来区分此纹素取值为边框常量颜色还是纹素地址对应的纹理图像，并进行对应取值。