[发明专利]一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法

权利要求书

1.一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，包括如下步骤：

(1)根据熔炼炉坩埚尺寸和浇铸角度θ计算熔融原料的出液体积V，得到坩埚浇铸过程理论出液体积随浇铸角度的变化曲线；当θ＜59°时，V＝πr²(H-r/tan(90°-θ))；当θ≥59°时，V＝Hr³/(r+b)(sinγ+(π-γ)cosγ-sinγ³/3)，其中H为坩埚高度，r为坩埚半径，b＝Hsin(90°-θ)/cos(90°-θ)-r，γ＝Acos(b/r)，A为修正系数；

(2)根据出液量变化范围对出液体积变化曲线进行分段，得出各出液段对应的浇铸角度段；

(3)根据浇铸设备尺寸及甩片性质计算浇铸总时间T；浇铸总时间其中m为熔融后的原料质量，d为甩片厚度，n为铜辊转速，L为甩带宽度，R为铜辊直径，ρ为甩片密度，A为修正系数；

(4)根据步骤(2)各角度段之间出液量占总出液量百分比将浇铸总时间进行等比例分配，计算出各角度段时间，得到角度-时间浇铸曲线；

(5)对冷却铜辊进行喷砂打磨；

(6)对原料进行变功率熔融和精炼；

(7)按照浇铸曲线将熔融和精炼后的原料浇注至打磨后的冷却铜辊，旋转得到甩片。

2.根据权利要求1所述的一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，步骤(1)中H为75～80cm，r为20～25cm。

3.根据权利要求1所述的一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，步骤(2)中以浇铸角度每变化0.1°时出液量的变化量进行分段，出液量变化范围1％～15％。

4.根据权利要求1所述的一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，步骤(3)中m为400～630kg，d为0.25～0.35mm，n为30～40转/min，L为35～46cm，R为58～62cm，ρ为7.4～7.6g/cm³。

5.根据权利要求1所述的一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，步骤(1)和(3)中修正系数A为0.9～1.2。

6.根据权利要求1所述的一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，步骤(5)中喷砂打磨时的砂料包括石英砂、树脂砂、陶瓷砂、白刚玉、铁砂的一种或多种，砂料规格为6～400目。

7.根据权利要求1所述的一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，步骤(6)中变功率熔融和精炼步骤为：A)在第一高功率下熔融20～30min；B)在第一低功率下精炼3～15min；C)在第二高功率下精炼2～10min；D)在第二低功率下精炼2～10min；E)在第三高功率下精炼2～8min。

8.根据权利要求7所述的一种改善钕铁硼磁体甩片厚度分布和微观组织结构的方法，其特征是，第一高功率为500～550kW，第一低功率为200～450kW，第二高功率为300～500kW，第二低功率为150～400kW，第三高功率为200～500kW。