[发明专利]一种能够实现光学系统自动闭环控制的孔径仪及测量方法

权利要求书

1.一种能够实现光学系统自动闭环控制的孔径仪的测量方法，其特征在于：所述孔径仪包括plc、腔室（1）、位于所述腔室（1）内的驱动机构、位于所述驱动机构上的测试机构以及位于所述腔室（1）后壁上的CCD相机（14），其中：

所述腔室（1）左右侧壁上开设有端口，腔顶开设有腔盖；

所述驱动机构包括伺服电机（3）、与伺服电机（3）后端分别连接的编码器（2）、与伺服电机（3）输出端分别连接的丝杆转轴（4）、与丝杆转轴（4）分别连接的滑块（5）以及与滑块（5）分别连接的滑轨（7）；

所述驱动机构具有两个，分别固定连接在所述腔室（1）左右侧壁上；

所述测试机构包括与两所述驱动机构上的所述滑块（5）分别连接的两旋转平台（6）、与两旋转平台（6）分别连接的两转轴（8）以及与两转轴（8）分别连接的光线发射器（9）、光线接收器（11）；

还包括位于所述端口处的机械手（12），所述机械手（12）可沿x、y、z轴运动；

所述伺服电机（3）输出轴前端为锥齿轮结构；

所述光线发射器（9）与所述光线接收器（11）处于同一平面；

还包括气液混合装置（10），所述气液混合装置（10）固定在所述腔盖中心下方；

还包括wafer（13），所述wafer（13）设置于所述机械手（12）上；

所述测量方法包括以下步骤：

A、设定wafer（13）表面测试点位置、发射光角度θ1、所需孔径值φ1以及光线接收器（11）距离wafer（13）表面的垂直距离为B’；

B、通过机械手（12）将wafer（13）表面测试点置于腔室（1）中心；

C、通过旋转平台（6）调节发射光角度θ1和接收光角度θ2；

D、通过伺服电机（3）调节光线发射器（9）与测试点的水平距离L1以及光线发射器（9）与测试点的水平距离L2；

E、通过机械手（12）调节wafer（13）表面测试点距离光线发射器（9）和光线接收器（11）的垂直距离B；

F、两编码器（2）验证两伺服电机（3）转动圈数，并互相反馈；

G、CCD相机（13）对θ1、θ2、L1、L2、B进一步验证；

H、气液混合装置（10）开始喷淋，plc进行数据分析测量。

2.根据权利要求1所述的一种能够实现光学系统自动闭环控制的孔径仪的测量方法，其特征在于：其中步骤F验证两伺服电机（3）转动圈数不一致则重复步骤D。

3.根据权利要求1所述的一种能够实现光学系统自动闭环控制的孔径仪的测量方法，其特征在于：其中：

验证θ1与θ2不一致则重复步骤C，验证一致则进入步骤H；

验证L1与L2长度不一致则重复步骤C，验证一致则进入步骤H；

验证B与B’不一致则重复步骤C，验证一致则进入步骤H。

4.根据权利要求1所述的一种能够实现光学系统自动闭环控制的孔径仪的测量方法，其特征在于：其中步骤H控制器plc分析数据得出的孔径值φ，将φ与φ1进行对比。