[发明专利]双酰基次膦酸的衍生物、其制备及其作为光敏引发剂的用途在审
| 申请号: | 201911104532.9 | 申请日: | 2013-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN110845530A | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
| 发明(设计)人: | G·穆勒;H·格鲁特玛舍尔;K·迪耶特里克 | 申请(专利权)人: | IGM集团公司 |
| 主分类号: | C07F9/32 | 分类号: | C07F9/32;C07F9/6533;C07F9/6553;C08F2/50;C09D4/00;C09D171/00;C09D167/06;G03F7/029 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 肖威;刘金辉 |
| 地址: | 荷兰瓦*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双酰基次膦酸 衍生物 制备 及其 作为 光敏 引发 用途 | ||
1.式(I)的双酰基氧化膦或双酰基硫化膦化合物:
其中
R1、R2、R3、R1a、R2a和R3a相互独立地为C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或卤素;
R4为Cl、F或Br,且X为直接键;
Y为O或S;
n为1。
2.根据权利要求1的式(I)的双酰基氧化膦或双酰基硫化膦化合物,其中
R1、R2、R3、R1a、R2a和R3a相互独立地为C1-C4烷基;
R4为Cl,且X为直接键;
Y为O或S;
n为1。
3.制备式(I)的双酰基次膦酸化合物和双酰基硫代次膦酸化合物的方法:
其中
Y为O或S;
X为直接键;
R4为卤素;以及
R1、R2、R3、R1a、R2a、R3a和n如权利要求1所定义;
其中使
其中R4为氢且X和Y为O的式(I)化合物,或者
其中R4为氢且X和Y为S的式(I)化合物,或者
其中X1和Y为O的式(II)化合物,或者
其中X1和Y为S的式(II)化合物,
与卤化剂反应而得到化合物其中n、R1、R2、R3、R1a、R2a、R3a和Y如权利要求1所定义且Hal为Cl、Br或I,优选Cl。
4.一种可光聚合组合物,包含
(a)至少一种烯属不饱和可光聚合化合物,和
(b)作为光敏引发剂的至少一种如权利要求1所定义的式(I)化合物。
5.根据权利要求4的可光聚合组合物,除了所述光敏引发剂(b)外额外包含至少一种其他光敏引发剂(c)和/或其他添加剂(d)。
6.根据权利要求5的可光聚合组合物,作为其他添加剂(d)包含颜料或颜料混合物或一种或多种颜料与一种或多种染料的混合物。
7.根据权利要求5的可光聚合组合物,作为其他添加剂(d)包含分散剂或分散剂混合物。
8.根据权利要求4-7中任一项的可光聚合组合物,基于所述组合物包含0.05-25重量%光敏引发剂(b)或光敏引发剂(b)和(c)。
9.根据权利要求4-7中任一项的可光聚合组合物,作为其他添加剂(d)包含光敏剂。
10.一种光聚合含有烯属不饱和双键的化合物的方法,包括用150-600nm范围内的电磁辐射或电子束或X射线辐照根据权利要求4-8中任一项的可光聚合组合物。
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