[发明专利]新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法

权利要求书

1.一种盐化合物，其由下式(A)表示；

式中，R¹为也可以含有氧原子的碳数1～20的直链状、支链状或环状烷基；R²为碳数1～20的直链状或支链状烷二基、或者饱和环状2价烃基；R³为氢原子或者碳数1～12的直链状、支链状或环状烷基；Rf¹、Rf²、Rf³及Rf⁴分别独立地为氢原子、氟原子或三氟甲基，它们之中至少1个为氟原子或三氟甲基；L¹为-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-或-O-；M⁺为下式(A1)所示的锍阳离子、下式(A2)所示的碘鎓阳离子或下式(A3)所示的铵阳离子；m为1；n为1，

式中，R¹¹～R¹⁹分别独立地为也可以含有杂原子的碳数1～20的1价烃基，R¹¹～R¹³中的任意2个也可以彼此键结并和它们所键结的硫原子一起形成环。

2.根据权利要求1所述的盐化合物，其中，Rf¹及Rf²为氟原子，Rf³及Rf⁴为氢原子。

3.根据权利要求1所述的盐化合物，其中，Rf¹及Rf²为氟原子，Rf³为三氟甲基，Rf⁴为氢原子。

4.根据权利要求1至3项中任一项所述的盐化合物，其中，R¹为含有内酯结构的环状烷基。

5.根据权利要求1所述的盐化合物，其中，阴离子由下式中的任一个所示；

6.一种光致产酸剂，其由根据权利要求1至5项中任一项所述的盐化合物构成。

7.一种化学增幅抗蚀剂组合物，含有根据权利要求6所述的光致产酸剂。

8.根据权利要求7所述的化学增幅抗蚀剂组合物，还含有基础树脂，所述基础树脂包含具有下式(a)所示的重复单元及下式(b)所示的重复单元的聚合物；

式中，R^A分别独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；Z^A为单键、亚苯基、亚萘基或(主链)-C(＝O)-O-Z'-，Z'为也可以含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1～10的烷二基、或亚苯基或亚萘基；X^A为酸不稳定基团；Y^A为氢原子、或含有选自羟基、氰基、羰基、羧基、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键、内酯环、磺内酯环及羧酸酐中的至少1种以上的结构的极性基团。

9.根据权利要求7或8所述的化学增幅抗蚀剂组合物，还含有有机溶剂。

10.根据权利要求7或8所述的化学增幅抗蚀剂组合物，还含有淬灭剂。

11.根据权利要求10所述的化学增幅抗蚀剂组合物，其中，所述淬灭剂包含下式(1a)或(1b)所示的化合物；

式中，R^q1为氢原子、或也可以含有杂原子的碳数1～40的1价烃基，但与磺基的α位的碳原子键结的氢原子被氟原子或氟烷基取代的情形除外；R^q2为氢原子、或也可以含有杂原子的碳数1～40的1价烃基；Mq⁺为鎓阳离子。

12.根据权利要求10所述的化学增幅抗蚀剂组合物，其中，所述淬灭剂包含胺化合物。

13.根据权利要求7或8所述的化学增幅抗蚀剂组合物，还含有除根据权利要求6所述的光致产酸剂以外的其他光致产酸剂。