[发明专利]抛光垫及化学机械抛光设备有效
| 申请号： | 201911100422.5 | 申请日： | 2019-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN110802508B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 蒲以松;惠聪;阴俊沛 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 化学 机械抛光 设备 | ||
1.一种抛光垫，包括衬底层和位于所述衬底层上的抛光层，其特征在于，所述抛光层包括多个沿周向设置、同圆心的周向沟槽，以及多个沿径向设置、连通相邻周向沟槽的径向沟槽，所述径向沟槽为直线；
所述径向沟槽包括仅连通相邻两个周向沟槽的第二径向沟槽；
所述第二径向沟槽将第k-1周向沟槽和第k周向沟槽之间的区域均匀分为m个子区域，所述第二径向沟槽将第k周向沟槽和第k+1周向沟槽之间的区域均匀分为m+d个子区域，m为大于1的整数，k为大于0小于K的整数；或
所述第二径向沟槽将第k-1周向沟槽和第k周向沟槽之间的区域均匀分为m个子区域，所述第二径向沟槽将第k周向沟槽和第k+1周向沟槽之间的区域均匀分为m*a个子区域。
2.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述周向沟槽的数量大于等于3。
3.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，从所述抛光层的圆心到圆周的方向上，多个所述周向沟槽分别为第1周向沟槽、第2周向沟槽、…、第K周向沟槽，K为周向沟槽的数量，所述径向沟槽包括连通第1周向沟槽至第K周向沟槽的第一径向沟槽。
4.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，所述第一径向沟槽的数量大于等于2。
5.根据权利要求1或3所述的抛光垫，其特征在于，
所述第二径向沟槽将相邻两个周向沟槽之间的区域均匀分为N个子区域，N为大于1的整数。
6.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，d等于1，a等于2。
7.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，所述第一径向沟槽的宽度处处相等；或
所述第一径向沟槽包括交替排布的第一部分和第二部分，所述第一部分的宽度大于所述第二部分的宽度。
8.根据权利要求7所述的抛光垫，其特征在于，所述第一部分和所述第二部分仅位于相邻的两个周向沟槽之间。
9.根据权利要求7所述的抛光垫，其特征在于，所述第一部分的宽度等于所述周向沟槽的宽度。
10.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，
所述第二径向沟槽的宽度等于所述周向沟槽的宽度；或
所述第二径向沟槽的宽度小于所述周向沟槽的宽度；或
所述第二径向沟槽的宽度大于所述周向沟槽的宽度。
11.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括如权利要求1-10中任一项所述的抛光垫。
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