[发明专利]一种用于增材制造无损检测的标准试块组件

权利要求书

1.一种用于增材制造无损检测的标准试块组件，其特征在于：其包括用于为面积型的缺陷提供判定依据且采用直接能量沉积的方法打印的沉积面积缺陷试块组、用于为面积型的缺陷提供判定依据且采用粉末床熔覆的方法打印的熔覆面积缺陷试块组、用于为体积型的缺陷提供判定依据且采用直接能量沉积的方法打印的沉积体积缺陷试块组、用于为体积型的缺陷提供判定依据且采用粉末床熔覆的方法打印的熔覆体积缺陷试块组，

所述沉积面积缺陷试块组包括至少一个沉积面积缺陷试块，每个所述沉积面积缺陷试块上开设有多个反射槽，反射槽呈长方体形，反射槽至少分为三组，三组反射槽分别为由单个反射槽组成的第一反射槽组、与所述第一反射槽组共线设置且由两个所述反射槽组成的第二反射槽组，与第一反射槽组相垂直设置且位于所述第一反射槽组和第二反射槽组之间的第三反射槽组，所述第三反射槽组包括两个正对设置的反射槽，所述沉积面积缺陷试块上反射槽的尺寸、间距范围有两种，分别为深度：80~120μm、宽度：80~120μm、长度：100~4000μm、间距：80~120μm和深度：20~60μm、宽度：20~60μm；长度：50~4000μm、间距：20~60μm；

所述熔覆面积缺陷试块组包括至少一个熔覆面积缺陷试块，每个所述熔覆面积缺陷试块上开设有多个反射槽，反射槽呈长方体形，反射槽至少分为三组，三组反射槽分别为由单个反射槽组成的第四反射槽组、与所述第四反射槽组共线设置且由两个所述反射槽组成的第五反射槽组，与第四反射槽组相垂直设置且位于所述第四反射槽组和第五反射槽组之间的第六反射槽组，所述第六反射槽组包括两个正对设置的反射槽；

所述沉积体积缺陷试块组包括至少一个沉积体积缺陷试块，每个沉积体积缺陷试块上开设有多个检测孔，检测孔至少分为四组，四组检测孔分别为由单个检测孔组成的第一检测孔组、由两个组成且圆心与所述第一检测孔组的检测孔的圆心共线的第二检测孔组、由单个检测孔组成的第三检测孔组、由两个组成且圆心与所述第三检测孔组的检测孔的圆心共线的第四检测孔组，第一检测孔组和第二检测孔组的检测孔直径相同，第三检测孔组和第四检测孔组的检测孔直径相同且小于第二检测孔组的检测孔直径，多个所述沉积体积缺陷试块中，有一个所述沉积体积缺陷试块上的检测孔为贯通孔，有一个所述沉积体积缺陷试块上的检测孔为非贯穿通孔，

所述熔覆体积缺陷试块组包括至少一个熔覆体积缺陷试块，每个熔覆体积缺陷试块上开设有多个检测孔，检测孔至少分为二组，二组检测孔分别为由单个检测孔组成的第五检测孔组、由两个组成且圆心共线的第六检测孔组，多个所述沉积体积缺陷试块中，有一个所述沉积体积缺陷试块上的检测孔为贯通孔，有一个所述沉积体积缺陷试块上的检测孔为非贯穿通孔。

2.根据权利要求1所述的用于增材制造无损检测的标准试块组件，其特征在于：沉积面积缺陷试块的厚度：1000~6000μm、宽度：10000~60000μm、长度：10000~60000μm。

3.根据权利要求1所述的用于增材制造无损检测的标准试块组件，其特征在于：所述熔覆面积缺陷试块上反射槽的尺寸、间距范围有两种，分别为深度：80~120μm、宽度：80~120μm、长度：100~4000μm、间距：80~120μm和深度：20~60μm、宽度：20~60μm；长度：50~4000μm、间距：20~60μm，所述熔覆面积缺陷试块的厚度：800~2000μm、宽度：10000~50000μm、长度：10000~50000μm。

4.根据权利要求1所述的用于增材制造无损检测的标准试块组件，其特征在于：所述沉积体积缺陷试块上直径较大的检测孔的直径范围为80~120μm直径较大的检测孔的直径范围为20~60μm,沉积体积缺陷试块的厚度：1500~2500μm、宽度：10000~60000μm、长度：10000~60000μm,其中贯穿的检测孔的深度即为试块厚度，非贯穿的检测孔的深度为试块厚度的1/2，直径较大的检测孔组中同一组中检测孔的间距为：80~120μm，直径较小的检测孔组中同一组中检测孔的间距为：20~60μm。

5.根据权利要求1所述的用于增材制造无损检测的标准试块组件，其特征在于：所述熔覆积体积缺陷试块上直径较大的检测孔的直径范围为80~120μm直径较大的检测孔的直径范围为20~60μm,沉积体积缺陷试块的厚度：800~1200μm、宽度：10000~50000μm、长度：10000~50000μm,其中贯穿的检测孔的深度即为试块厚度，非贯穿的检测孔的深度为试块厚度的1/2，直径较大的检测孔组中同一组中检测孔的间距为：80~120μm，直径较小的检测孔组中同一组中检测孔的间距为：20~60μm。