[发明专利]一种高熵合金靶材制备装置

权利要求书

1.一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：包括具有工作腔室(1)的壳体(2)，所述壳体(2)的一侧设置有驱动电机(3)，所述驱动电机(3)的输出轴穿入工作腔室(1)内固定连接有转动盘(4)，所述转动盘(4)的一侧转动连接有大齿轮(5)，所述大齿轮(5)与转动盘(4)同轴心设置，所述大齿轮(5)的外周等间距啮合有六个小齿轮(6)，每个所述小齿轮(6)的轴心处均与转动盘(4)转动连接，六个所述小齿轮(6)所远离大齿轮(5)的一侧均啮合有同一个齿圈(7)，所述齿圈(7)与壳体(2)内壁固定连接；

每个所述小齿轮(6)的一侧均设置第一置物槽(8)，六个所述第一置物槽(8)均内置有靶筒(9)，每个所述靶筒(9)的一端均与第一置物槽(8)的底壁固定连接，每个所述靶筒(9)均包括溅射靶材(10)和靶材内筒(11)，所述溅射靶材(10)均匀的覆盖在靶材内筒(11)上，六个所述靶筒(9)上的溅射靶材(10)为不同材质制成；

每个所述小齿轮(6)的一侧均穿设有固定杆(12)，每个所述固定杆(12)的一端与转动盘(4)固定连接，每个所述固定杆(12)的另一端固定连接有磁棒管件(13)，所述磁棒管件(13)位于靶筒(9)内，每个所述磁棒管件(13)内部均安装有提供溅射用磁场的磁铁(14)以及冷却水通道(15)，所述大齿轮(5)的一侧设置有第二置物槽(16)，所述第二置物槽(16)内固定连接有待镀膜工件(17)，所述待镀膜工件(17)与大齿轮(5)为同轴心设置。

2.根据权利要求1所述的一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：所述磁铁(14)包括三个永久磁铁，位于中间的所述永久磁铁与其两边的永久磁铁极性相反安装，三个所述永久磁铁的一侧距离溅射靶材(10)表面的距离相等。

3.根据权利要求2所述的一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：所述冷却水通道(15)沿磁棒管件(13)的长度方向延伸，包括进水口(18)、进水通道(19)、出水通道(20)以及出水口(21)，所述磁棒管件(13)与靶筒(9)之间设置有间隙(22)，所述进水通道(19)和出水通道(20)沿磁棒管件(13)长度方向等间距排布，所述进水通道(19)与出水通道(20)对称分布于磁棒管件(13)的两端，每个所述进水通道(19)的一端与进水口(18)相连接，每个所述进水通道(19)的另一端与间隙(22)相连通，每个所述出水通道(20)的一端与出水口(21)相连接，每个所述出水通道(20)的另一端与间隙(22)相连通；所述冷却水从磁棒管件(13)内部的一端进入进水口(18)，并由所述进水通道(19)导入至间隙(22)内，待冷却水环绕所述间隙(22)一周后可由出水通道(20)进入出水口(21)处进行排出。

4.根据权利要求3所述的一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：每个所述靶筒(9)的一端套设有用以封堵间隙(22)的套盖(23)，所述套盖(23)与靶筒(9)之间过盈配合。

5.根据权利要求4所述的一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：所述转动盘(4)的一侧贯穿设置有分别与进水口(18)、出水口(21)相连通的入水口(24)和过水口(25)，所述入水口(24)的个数为六个且分别对应于六个磁棒管件(13)上的进水口(18)，所述过水口(25)的个数为六个且分别对应于六个磁棒管件(13)上的出水口(21)。

6.根据权利要求5所述的一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：当进入所述间隙(22)后的冷却水流速大于靶筒(9)的转动速度时，使得两者具有速度差；若速度差越大，则单位时间条件下，所述靶筒(9)内壁所接触的冷却水面积将越大。

7.根据权利要求6所述的一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：所述壳体(2)的一侧转动连接有密封门(26)，所述密封门(26)在与壳体(2)密封配合所形成的工作腔室(1)是一个封闭的空间，所述壳体(2)的侧壁上设置有进气口(27)和抽气口(28)，所述抽气口(28)连接有真空泵，所述进气口(27)用于氩气以及反应气体的进入。

8.根据权利要求7所述的一种高熵合金靶材制备装置，其特征是：所述密封门(26)上设置有便于手部持握的把手(29)。