[发明专利]光罩及曝光设备

说明书

本申请公开了一种光罩及曝光设备。该光罩包括：相对设置的第一基板和第二基板。第一基板在背对第二基板的一侧设有第一图案层，第二基板在背对第一基板的一侧设有第二图案层，第一图案层和第二图案层用于使待光刻物形成光刻图案。本申请通过对光罩的第一图案层和第二图案层的结构调整，使得光罩的第一图案层和第二图案层不容易积累静电，以降低第一图案层和第二图案层被击穿的风险。

技术领域

本申请涉及光罩的技术领域，特别涉及一种光罩及曝光设备。

背景技术

常态的光罩的图案层是位于玻璃的一侧，且该些光罩的图案层需要与曝光材料接触。但是由于光罩的图案层的材质为金属，且该光罩的图案层的线宽较窄，抗静电差。在曝光作业中，光罩的图案层会与曝光材料不断地接触摩擦，使得光罩的图案层容易产生和积累静电。积累的静电会导致光罩的图案层被击伤，进而光罩的图案层异常而导致该光罩报废。

发明内容

本申请的目的在于提供一种光罩及曝光设备，以解决一般性光罩的抗静电能力较差的问题。

为了解决上述技术问题，本申请提供了一种光罩，包括：相对设置的第一基板和第二基板；所述第一基板在背对所述第二基板的一侧设有第一图案层，所述第二基板在背对所述第一基板的一侧设有第二图案层，所述第一图案层和所述第二图案层用于使待光刻物形成光刻图案。

应当理解，通过使所述第一基板和所述第二基板与待光刻物接触的光罩结构，使得所述光罩的第一图案层和第二图案层不容易积累静电，由此可以降低所述第一图案层和所述第二图案层被击穿的风险。

一实施例中，所述光罩还包括：第一保护层；所述第一图案层夹设在所述第一保护层和所述第一基板之间。

应当理解，所述第一保护层可以在一定程度上预防所述第一图案层与其他结构接触的可能，以此保护所述第一图案层。

一实施例中，所述光罩还包括：第二保护层；所述第二图案层夹设在所述第二保护层和所述第二基板之间。

应当理解，所述第二保护层可以在一定程度上预防所述第二图案层与其他结构接触的可能，以此保护所述第二图案层。

一实施例中，所述第一保护层和所述第二保护层均为透明基板。

应当理解，该透明基板的第一保护层和第二保护层具有一定的硬度以及良好的透光、绝缘等特性。因此，所述第一保护层和所述第二保护层分别可以更好地保护所述第一图案层和所述第二图案层，以防止所述第一图案层和所述第二图案层积累静电。

一实施例中，所述第一保护层的厚度大于或等于所述第一基板的厚度；所述第二保护层的厚度大于或等于所述第二基板的厚度。

应当理解，光线在透过所述第一基板或所述第二基板过程中的光损耗更小，由此可以提高照射至所述待光刻物的光强。

一实施例中，所述第一保护层和所述第二保护层均为防静电膜层。

应当理解，在有效保护对应的第一图案层和第二图案层的同时，防静电膜层具有更薄的厚度，以此可以提高光线照射至待光刻物上的光强，进而可以提高待光刻物的曝光程度。

一实施例中，所述第一保护层被设置成具有与所述第一图案层相同的形状。

应当理解，在没有所述第一图案层的区域，光线透过所述第一基板而照射在所述待光刻物上，而不需要再通过所述第一保护层，由此可以提高对所述待光刻物的曝光效果。

一实施例中，所述第二保护层被设置成具有与所述第二图案层相同的形状。

应当理解，在没有所述第二图案层的区域，光线透过所述第二基板而照射在所述待光刻物上，而不需要再通过所述第二保护层，由此可以提高对所述待光刻物的曝光效果。

一实施例中，所述第一图案层和所述第二图案层互为镜像图案层。