[发明专利]一种自吸气式X射线发生装置及其用途

权利要求书

1.一种自吸气式X射线发生装置，包括绝缘壳、阴极、阳极和栅极，其特征在于，所述自吸气式X射线发生装置还包括至少一个吸附金属板和至少一个溅射金属板；

所述阴极封装于所述绝缘壳内，用于释放电子；

所述阳极封装于所述绝缘壳内，所述阳极包括靶体和靶面；

阴极释放的电子与所述阳极靶面碰撞而释放X射线；

所述吸附金属板和所述溅射金属板平行设置，所述吸附金属板与其相邻的溅射金属板形成一组离子溅射结构，所述离子溅射结构的数目为至少一组，所述离子溅射结构位于阴极的至少一侧，所述吸附金属板和所述溅射金属板的平面方向与阴极释放电子的方向平行；

所述栅极设置在吸附金属板或溅射金属板上，或单独设置。

2.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，位于阴极同侧的吸附金属板和溅射金属板满足如下条件：吸附金属板和溅射金属板平行交替设置，形成至少两组离子溅射结构。

3.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述离子溅射结构中，吸附金属板与所述溅射金属板相互间隔排列，离子溅射结构的数目在1-10之间。

4.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述离子溅射结构中，相邻的吸附金属板距离与溅射金属板的距离为0.5-5mm之间。

5.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述栅极位于靠近阴极一侧的吸附金属板或溅射金属板上。

6.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述栅极连接有引线。

7.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述绝缘壳的材质包括玻璃、陶瓷、金属-陶瓷复合材料或三氧化二铝中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述阴极包括热阴极或冷阴极。

9.根据权利要求8所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述热阴极包括灯丝。

10.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述阴极连接有引线。

11.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述阳极的靶体包括反射式阳极靶或透射式阳极靶。

12.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述自吸气式X射线发生装置还包括至少一个聚焦极，所述至少一个聚焦极位于电子传输路径上，以对经过的电子束进行聚焦、束形。

13.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述自吸气式X射线发生装置还包括双静电聚焦电极结构，所述双静电聚焦电极结构位于电子传输路径上，用于实现微焦斑X射线输出，所述双静电聚焦电极结构包括第一静电聚焦极和第二静电聚焦极，其中，阴极与栅极距离在0.5-1.0mm之间，所述栅极与所述第一静电聚焦极的距离在1.0-5.0mm之间，所述第一静电聚焦极和所述第二静电聚焦极之间距离在1.0-10.0mm之间。

14.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述绝缘壳上设置有X射线窗，用于X射线的输出。

15.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述溅射金属板的材质包括钛、锆、铪、钼、钨、钯、铑或铬的金属单质或上述至少两种的金属合金。

16.根据权利要求1所述的自吸气式X射线发生装置，其特征在于，所述溅射金属板的材质为钛金属及钛合金。