[发明专利]一种金属图案化的透明光敏聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用有效
申请号: | 201911075808.5 | 申请日: | 2019-11-06 |
公开(公告)号: | CN110923677B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 容敏智;莫伟杰;张泽平;章明秋 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C23C18/14 | 分类号: | C23C18/14;C08L79/08;C08J5/18;C08G73/10 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 姚招泉 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 图案 透明 光敏 聚酰亚胺 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种金属图案化的透明光敏聚酰亚胺薄膜,其特征在于,包括聚酰亚胺薄膜和附着于聚酰亚胺薄膜表面的具有图案的金属镀层;
所述聚酰亚胺薄膜由具有如式(Ⅰ)或式(Ⅱ)所示结构的聚酰亚胺树脂涂膜,烘干得到;
其中,R1为氢、卤素、烷基、甲酯基、甲氧基、乙氧基、羟基或羧基;R2为氢、硝基、卤素、烷基、甲酯基、甲氧基、乙氧基、羟基或羧基;R3为氢、硝基、卤素、烷基、甲酯基、甲氧基、乙氧基、羟基或羧基;R4为-CxH2x-,x为正整数;Ar为二酐单体的残基;R为二元伯胺单体的残基;m、n是正整数;R’为三取代苯基:R为如下结构所示二元伯胺单体残基中的一种或几种:
Ar为如下结构所示二酐单体残基的一种或几种:
2.根据权利要求1所述金属图案化的透明光敏聚酰亚胺薄膜,其特征在于,所述金属镀层为铜层、镍层或金层。
3.权利要求1~2任一所述金属图案化的透明光敏聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
M1:将聚酰亚胺树脂涂膜,烘干得聚酰亚胺薄膜;
M2:在聚酰亚胺薄膜上旋涂或喷涂含有银离子的络合液,掩膜,曝光,得具有图案化银活性种的活性光敏聚酰亚胺薄膜;
M3:将活性光敏聚酰亚胺薄膜浸泡在化学镀液中,漂洗,烘干即得所述金属图案化的透明光敏聚酰亚胺薄膜。
4.根据权利要求3所述制备方法,其特征在于,M2所述络合液中银离子的浓度为0.005~1mol/L。
5.根据权利要求3所述制备方法,其特征在于,M2所述络合液中的银离子来源于硝酸银。
6.根据权利要求3所述制备方法,其特征在于,M2所述络合液中选用的助剂为吡啶、吡嗪、胱氨酸、二硫代苏糖醇、络氨酸、组氨酸、哌啶、咪唑、吡咯、2,2’-联吡啶、4,4’-联吡啶或乙二胺四乙酸二钠中的一种或几种。
7.根据权利要求6所述制备方法,其特征在于,M2所述络合液中银离子和助剂的摩尔比为10:0.5~50。
8.根据权利要求3所述制备方法,其特征在于,M3中所述化学镀液含有金属盐和还原剂;所述金属盐和还原剂的摩尔比为1:0.02~0.2。
9.根据权利要求3所述制备方法,其特征在于,M3中所述化学镀液的pH值为10~13。
10.权利要求1~2任一所述金属图案化的透明光敏聚酰亚胺薄膜在制备柔性电子设备的电路板或金属导电图案中的应用。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理