[发明专利]陶瓷3D打印膏料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911072200.7 申请日: 2019-11-05
公开(公告)号: CN110698197A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 肖坦;邹倩;陆青;肖华军;江涛;牛文明;顾成言;马建立 申请(专利权)人: 深圳光韵达光电科技股份有限公司
主分类号: C04B35/48 分类号: C04B35/48;C04B35/626;C04B35/634;B33Y70/10
代理公司: 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 代理人: 黄议本
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制备 光敏树脂 膏料 单官能团单体 三官能团单体 双官能团单体 陶瓷粉体 分散均匀性 质量百分比 方法使用 光引发剂 分散剂 抗沉降 消泡剂 增稠剂 质量比 申请 打印 陶瓷
【说明书】:

本申请公开了一种陶瓷3D打印膏料及其制备方法。所述制备方法使用如下质量百分比的组分:15%至20%的光敏树脂;所述光敏树脂包括质量比为1:2:1的单官能团单体、双官能团单体和三官能团单体;所述单官能团单体的粘度小于15pa·s;所述双官能团单体的粘度小于20pa·s;所述三官能团单体的粘度小于200pa·s;80%至85%的陶瓷粉体;为所述陶瓷粉体的质量的1%至4%的分散剂;0.1%至1%的消泡剂;为所述光敏树脂的质量的0.1%至0.5%的光引发剂;0.5%至5%的增稠剂。所述膏料由所述制备方法得到。本申请制备得到的膏料分散均匀性好的同时具有优异的抗沉降性能。

技术领域

本申请涉及3D打印技术领域,特别涉及一种陶瓷3D打印膏料及其制备方法。

背景技术

陶瓷材料作为一类传统的无机非金属材料,发展至今已有几千年历史。因为其独特的物理化学性质,在各行各业得到了广泛的应用。同时,3D打印技术是最近几年迅猛发展的一项成型技术,也称为增材成型制造技术。3D打印技术区别于传统的等材和减材技术,实现了很多传统工艺无法实现的成型难题。众所周知,陶瓷材料硬而且脆,后期加工难度较大,在一定程度上阻碍了陶瓷材料的发展。而陶瓷3D打印技术,是传统陶瓷材料和先进3D打印技术的有机结合体,使制造复杂陶瓷产品成为可能。3D打印所具有的复杂成型能力、速度快和成型精度高等特点,给陶瓷材料注入了新的活力。

陶瓷3D打印技术是当前相对比较热门的一项先进技术,技术前景较好,发展空间大,很多的国内外企业和研究机构加入这一技术的研发队伍中。而陶瓷材料的研发,无疑是这一技术的重中之重。从陶瓷3D打印行业现状来看,材料分为浆料和膏料两种体系,成型方式分为SLA(Stereo Lithography Appearance,立体光固化成型法)和DLP(DigitalLighting Processing,数字光处理)。在材料制备方面,国内相对国外差距较大,不论是浆料体系还是膏料体系,材料的固含量、稳定性和流变性都还存在一些难题。其中相比浆料体系,膏料体系在材料稳定性和打印阶段的自支撑能力方面,具有明显优势。常见的膏料制备方法一般是通过先制备一定固含量的稳定浆料,然后再采取一定的办法将浆料转换为膏料。陶瓷3D打印材料主体都是陶瓷粉和有机光敏树脂,外加一些添加剂。

以上背景技术内容的公开仅用于辅助理解本申请的发明构思及技术方案,其并不必然属于本申请的现有技术,在没有明确的证据表明上述内容在本申请的申请日已经公开的情况下,上述背景技术不应当用于评价本申请的新颖性和创造性。

发明内容

本申请提出一种陶瓷3D打印膏料及其制备方法,制备得到的膏料具有优异的抗沉降性能。

在第一方面,本申请提供一种陶瓷3D打印膏料的制备方法,使用如下质量百分比的组分:

15%至20%的光敏树脂;所述光敏树脂包括质量比为1:2:1的单官能团单体、双官能团单体和三官能团单体;所述单官能团单体的粘度小于15pa·s;所述双官能团单体的粘度小于20pa·s;所述三官能团单体的粘度小于200pa·s;

80%至85%的陶瓷粉体;

为所述陶瓷粉体的质量的1%至4%的分散剂;

0.1%至1%的消泡剂;

为所述光敏树脂的质量的0.1%至0.5%的光引发剂;

0.5%至5%的增稠剂;

所述制备方法包括:

对所述陶瓷粉体进行前处理,得到前处理的陶瓷粉体;

将所述前处理的陶瓷粉体加入到配制好的所述光敏树脂、所述分散剂、所述消泡剂和所述光引发剂的混合溶液中,球磨制得浆料;

向得到的所述浆料中加入所述增稠剂,搅拌,混合均匀,静置10小时以上,从而得到陶瓷膏料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光韵达光电科技股份有限公司,未经深圳光韵达光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911072200.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top