[发明专利]待抛光件的表面的抛光方法、玻璃件及其应用

权利要求书

1.一种待抛光件的表面的抛光方法，其特征在于，包括：

提供至少一个表面具有立体纹理的待抛光件；

在所述立体纹理的表面上形成抛光牺牲层，且所述抛光牺牲层覆盖所述立体纹理的棱线和棱角，从所述棱线或所述棱角向远离所述棱角或所述棱线的方向上，所述抛光牺牲层的厚度逐渐减小，所述抛光牺牲层的边缘至所述棱线或棱角的距离为0.5～2.0mm；

对形成有所述抛光牺牲层的所述待抛光件的表面进行抛光处理，在所述抛光处理过程中，所述抛光牺牲层逐渐脱落；

在所述抛光牺牲层完全脱落之后，所述抛光处理继续进行20～40分钟，

其中，所述待抛光件为玻璃件。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抛光牺牲层的材料为油墨。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，形成所述抛光牺牲层的方法为丝网印刷或曝光显影。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抛光牺牲层的最大厚度为12～30微米，所述抛光牺牲层的最小厚度为4～10微米。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抛光牺牲层包括多层子抛光牺牲层，在远离所述待抛光件表面的方向上，多层所述子抛光牺牲层的宽度逐渐增大或逐渐减小。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述抛光牺牲层包括三层子抛光牺牲层，在远离所述待抛光件表面的方向上，多层所述子抛光牺牲层的宽度分别为1～2mm、2～3mm和3～4mm，或多层所述子抛光牺牲层的宽度分别为3～4mm、2～3mm和1～2mm。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述抛光牺牲层包括三层所述子抛光牺牲层，每层所述子抛光牺牲层的厚度为4～10微米。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抛光处理是采用软胶丝刷进行扫光完成的。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述软胶丝刷满足以下条件至少之一：

所述软胶丝刷的毛丝长度为25～35mm；

所述毛丝的直径为0.05-0.15mm；

所述毛丝的值毛间距为8～12mm。

10.根据权利要求1、8或9所述的方法，其特征在于，所述抛光处理满足以下条件：

最大压力为70～90千克；

最大转速为250～320rpm。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，制备获得的所述玻璃件的立体纹理的棱线和棱角处的R角的半径小于或等于0.5mm。