[发明专利]掩膜版及其制备方法

说明书

本发明实施例提供一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版包括版体，所述版体设置有检测开口，以及用于平衡所述检测开口所受拉伸应力的平衡图案，所述平衡图案与所述检测开口分别位于所述版体沿第一方向长度的中心线的两侧，所述第一方向与所述版体的拉伸方向垂直；该掩膜版拉伸后变形均匀，能够提高掩膜版对位精度稳定性，避免蒸镀过程中因掩膜版对位精度变差造成的蒸镀偏差。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜版及其制备方法。

背景技术

有机发光二极管显示装置(Organic Light Emitting Diode，OLED)是未来显示产品的发展趋势，具有视角宽、响应速度快、亮度高、对比度高、色彩鲜艳、重量轻、厚度薄、功耗低等一系列优点。成为了继LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)之后的下一代主流显示技术。

目前，真空热蒸镀是制备OLED器件的一种行之有效的方法，它将加热蒸发的材料分子穿过掩膜版装置的开口沉积到背板的相应位置处，以获得所需分辨率的显示面板。

掩膜版装置中的对位掩膜版主要用于蒸镀过程的检测和其他蒸镀装置对位，对位掩膜版上设置有检测开口。具体来说，蒸镀掩膜版装置组装时首先将对位掩膜版和掩膜版框架焊接，之后利用对位掩膜版的对位标记组装遮挡用掩膜版，然后根据对位掩膜版对位标记组装精密金属掩膜版，之后将蒸镀装置放置在真空腔室蒸上有机材料。为保证对位掩膜版的平坦度，消除对位掩膜版自身的重力下垂影响，对位掩膜版利用张力拉伸的方式焊接在蒸镀框架上。然而，现有对位掩膜版在拉伸过程中，容易产生变形不均匀的现象，影响对位精度的稳定性。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版拉伸后变形均匀，能够提高掩膜版对位精度稳定性，避免蒸镀过程中因掩膜版对位精度变差造成的蒸镀偏差。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种掩膜版，包括版体，所述版体设置有检测开口，以及用于平衡所述检测开口所受拉伸应力的平衡图案，所述平衡图案与所述检测开口分别位于所述版体沿第一方向长度的中心线的两侧，所述第一方向与所述版体的拉伸方向垂直。

可选地，所述版体包括焊接区，所述焊接区位于所述版体沿拉伸方向的两端。

可选地，所述平衡图案为通孔或凹槽。

可选地，所述平衡图案与所述检测开口以所述版体沿所述第一方向长度的中心线为对称轴对称设置。

可选地，所述平衡图案为通孔，所述平衡图案与所述检测开口的形状和尺寸相同。

可选地，所述平衡图案为凹槽，所述平衡图案与所述检测开口的形状相同，所述平衡图案的面积大于所述检测开口的面积。

可选地，所述版体设置有一个所述平衡图案以及至少两个所述检测开口，所述平衡图案的面积不小于各所述检测开口的面积之和。

可选地，所述平衡图案的中心线到所述版体沿所述第一方向长度的中心线的距离与所述检测开口的中心线到所述版体沿所述第一方向长度的中心线的距离相等。

可选地，所述检测开口的边部具有向所述检测开口内侧凹陷的第一补偿角部，和/或向所述检测开口外侧突起的第二补偿角部。

可选地，所述检测开口为七边形。

可选地，还包括框架，所述框架具有开口，所述版体焊接于所述框架上，所述版体包括与所述框架的开口对应的蒸镀有效区以及与所述框架的边框对应的蒸镀无效区，所述蒸镀有效区中设置有所述检测开口，所述蒸镀无效区中设置有所述平衡图案。

本发明实施例还提供了一种掩膜版的制备方法，包括：