[发明专利]一种无磷双组份清洗剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种无磷双组份清洗剂，其特征在于，包括A组分和B组分；

其中，以所述A组分总质量为100％计，所述A组分包括如下成分：

以所述B组分总质量为100％计，所述B组分包括如下成分：

氢氧化钾 3-20％；

助溶剂 1-3％；

余量为水；

以所述A组分总质量为100％计，所述A组分还包括五水偏硅酸钠0.2-0.5％；

以所述B组分总质量为100％计，所述B组分还包括柠檬酸钠和/或醋酸钠0.2-0.5％；

所述氨基多羧酸类螯合剂选自亚氨基琥珀酸钠盐、乙二胺四乙酸、二乙基三胺五乙酸或氮川三乙酸中的任意一种或至少两种的组合；

所述表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚和/或脂肪醇聚氧乙烯醚；

所述助溶剂为乙二醇丁醚；

所述A、B组分的质量比为1:1。

2.根据权利要求1所述的无磷双组份清洗剂，其特征在于，所述脂肪醇聚氧乙烯醚选自月桂醇聚氧乙烯醚。

3.根据权利要求1所述的无磷双组份清洗剂，其特征在于，所述有机碱选自三乙醇胺。

4.根据权利要求1-3中的任一项所述的无磷双组份清洗剂的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)将配方量的氢氧化钾、表面活性剂、助溶剂、有机碱、葡萄糖酸钠、氨基多羧酸类螯合剂、水和五水偏硅酸钠混合，得到所述A组分；

(2)将配方量的氢氧化钾、助溶剂、水和柠檬酸钠和/或醋酸钠混合，得到所述B组分。

5.根据权利要求1-3中的任一项所述的无磷双组份清洗剂在硅片清洗中的应用。

6.根据权利要求5所述的应用，其特征在于，所述应用包括如下步骤：将无磷双组份清洗剂中的A、B组分与水混合得到混合液，然后对硅片进行清洗。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，在所述混合液中，所述无磷双组份清洗剂的含量为5-8wt％。

8.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，所述清洗为超声清洗2-4min。