[发明专利]彩膜基板、液晶显示面板以及彩膜基板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201911033610.0 申请日: 2019-10-28
公开(公告)号: CN110824761A 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 黄东晨;李鸿基 申请(专利权)人: 惠州市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 516006 广东省惠州市仲恺高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 液晶显示 面板 以及 制作方法
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括:第一衬底基板、色阻层、黑矩阵以及第一偏光片或是色阻层、黑矩阵、第二偏光片以及第二衬底基板,其中,所述第一偏光片和/或所述第二衬底基板中均设置有上转换发光材料层,所述上转换发光材料层在红外激光的照射下,形成激光笔的可视激光点,增大了所述彩膜基板的可视角度。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述上转换发光材料层分为:上转换红光材料和上转换绿光材料;且所述上转换红光材料和所述上转换绿光材料对红外激光的波长均具有一定的预设波长长度。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述上转换红光材料的预设波长长度为:960nm,所述上转换绿光材料的预设波长长度为:966nm。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述上转换红光材料采用掺杂有敏化离子为Tm3+或Yb3+的BaY2F8晶体;所述上转换绿光材料采用掺杂有敏化离子为Er3+的ZnWO3晶体。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一偏光片由:离型膜、压敏胶、第一三醋酸纤维薄膜、聚乙烯醇膜、第二三醋酸纤维薄膜、上转换发光材料层、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜以及散射粒子依次层叠组成;所述第二偏光片由离型膜、压敏胶、第一三醋酸纤维薄膜、聚乙烯醇膜、第二三醋酸纤维薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜以及散射粒子依次层叠组成。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一偏光片和所述第二偏光片为:透射偏光片、反射偏光片或是半透半反偏光片。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二衬底基板由衬底基板和上转换发光材料层组成。

8.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:上述权利要求1-7任一项所述的彩膜基板,正对于所述彩膜基板设置的阵列基板以及设置在所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层。

9.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,该方法包括下述步骤:

S10,提供第一衬底基板或是第二衬底基板;

S20,若采用所述第二衬底基板,则在所述第二衬底基板上沉积上转换发光材料层;

S30,在所述第一衬底基板和/或所述第二衬底基板一侧沉积色阻层、黑矩阵;

S40,在所述第一衬底基板和/或所述第二衬底基板靠近所述色阻层的一侧贴附第一偏光片或是第二偏光片;

S50,若是所述第一偏光片,则在所述第一偏光片背离所述衬底基板的一侧沉积上转换发光材料层。

10.根据权利要求9所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,上述步骤“S20”和步骤“S50”中沉积所述上转换发光材料层采用旋涂工艺。

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