[发明专利]膜层结构及膜层结构的制备方法、壳体及纹理模具

权利要求书

1.一种膜层结构，其特征在于，包括：

基底；

纹理层，具有多个连续并排排列的凸条，所述凸条的截面为多边形，所述凸条具有第一侧面、第二侧面及底面，所述凸条以所述底面与所述基底接触的方式设置，所述凸条的材料为透光材料；及

颜色层，所述颜色层包括设于各所述凸条的第一侧面上的第一变色层及设于各所述凸条的第二侧面上的第二变色层，所述第一变色层的厚度和所述第二变色层的厚度不相等，所述第一变色层及所述第二变色层呈渐变色。

2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述第一侧面与所述底面形成的夹角和所述第二侧面与所述底面形成的夹角不相等，且均为锐角；及/或

所述凸条的截面呈三角形；及/或

所述颜色层由物理气相沉积法制备；及/或

所述第一变色层与所述第二变色层的材料相同；及/或

所述纹理层为UV纹理层。

3.根据权利要求1或2所述的膜层结构，其特征在于，所述颜色层的材料选自氧化物、氟化物、氮化物及金属中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的膜层结构，其特征在于，所述氧化物选自钛氧化物、铟氧化物、铌氧化物及铬氧化物中的至少一种；及/或

所述氟化物选自氟化镁及氟化钇中的至少一种；及/或

所述氮化物选自氮化铝、氮化硅、氮化硼及氮化钛中的至少一种；

所述金属选自Ti、铟、金、镍及铬中的至少一种。

5.根据权利要求1或2所述的膜层结构，其特征在于，所述第一变色层的厚度为10nm～1000nm；及/或

所述第二变色层的厚度为10nm～1000nm；及/或

所述第一侧面与所述第二侧面的交线到所述底面的距离为10μm～15μm。

6.根据权利要求1或2所述的膜层结构，其特征在于，所述基底的材料为透光材料，所述基底的材料选自PET、PC及PMMA中的至少一种。

7.根据权利要求1或2所述的膜层结构，其特征在于，所述膜层结构还包括盖底层，所述盖底层设于所述颜色层远离所述纹理层的一侧，所述盖底层的原料为单色油墨或多色油墨。

8.一种壳体，其特征在于，包括权利要求1～7任一项所述的膜层结构。

9.一种膜层结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

采用转印工艺在基底上制备纹理层，所述纹理层具有多个连续并排排列的凸条，所述凸条具有第一侧面、第二侧面及底面，所述凸条以所述底面与所述基底接触的方式设置，所述凸条的截面呈多边形，所述凸条的原料为透光材料；

采用物理气相沉积法在各所述凸条的第一侧面沉积第一变色层、在各所述凸条的第二侧面上沉积第二变色层，所述第一变色层的厚度与所述第二变色层的厚度不相等，所述第一变色层及所述第二变色层呈渐变色。

10.根据权利要求9所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述转印工艺为UV转印；及/或

所述物理气相沉积法为不连续镀膜法。

11.根据权利要求9或10所述的膜层结构的制备方法，其特征在于，所述在所述纹理层上制备颜色层的步骤之后，还包括在所述颜色层丝印盖底层的步骤。

12.一种纹理模具，其特征在于，包括本体及设置在本体上的多个连续并排排列的多棱条，所述多棱条具有第一面、第二面及第三面，所述多棱条以所述第三面与所述本体接触的方式设置。

13.根据权利要求12所述的纹理模具，其特征在于，所述第一面与所述第三面形成的夹角与所述第二面与所述第三面形成的夹角不相等，且均为锐角，所述第一面与所述第二面的交线到所述第三面的距离为10μm～15μm。