[发明专利]锑和/或铋纳米片、锑烯和/或铋烯及其制法和用途有效
申请号: | 201911023629.7 | 申请日: | 2019-10-25 |
公开(公告)号: | CN112792350B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 易罗财;温珍海 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24;B22F1/054;C25B11/075;C25B3/07;C25B3/26;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人: | 张莹 |
地址: | 350002 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 及其 制法 用途 | ||
本申请提供锑和/或铋纳米片、锑烯和/或铋烯及其制备方法。本发明还提供本发明的锑和/或铋纳米片、锑烯和/或铋烯以及本发明方法制得的锑和/或铋纳米片、锑烯和/或铋烯的用途。本申请的方法具有产率高、制备周期短、易于扩大制备等优势。
技术领域
本发明属于纳米材料领域,具体涉及金属纳米片、金属烯,特别是锑和/或铋纳米片以及锑烯和/或铋烯;还涉及所述金属纳米、金属烯的制备方法,更具体而言,所述方法为熔融盐辅助铝热还原法,还涉及本发明金属纳米片、金属烯和由本发明方法制备的金属纳米片、金属烯的用途。
背景技术
二维材料因具有独特的电学、光学和化学特性,而在过去的几十年引起了广泛关注。如石墨烯、黑磷等二维材料在电子、能源、环境和生物工程领域已经取得了巨大的成就。但是,石墨烯本身作为零带隙半金属材料,在电子和发光二极管领域的应用受限;黑磷则对环境中的水分和氧极度敏感,其应用同样遭受阻碍。锑(Sb)作为第五主族元素,与黑磷具有类似的性质,但具有独特的能带结构和良好的稳定性,因而应用前景广泛。
然而,近年来虽然已有报道锑烯或锑纳米片的制备方法,但所报道的制备方法,例如微机械剥离法、超声或液相剥离法、外延法,均存在缺陷。机械剥离法制备产率低,传统的液相剥离法制备耗时长,改进的液相剥离法过程复杂且产率仍待提高,外延法成本高昂。
发明内容
为了解决现有方法存在的问题,现提出一种全新的金属纳米片、金属烯,以及其制备方法,该方法克服了现有方法的不足,具有产率高、制备周期短、易于扩大制备等优势。
本发明一方面,提供一种金属纳米片,具体而言,提供一种锑纳米片材料和/或铋纳米片材料,所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度分布度ΔD/Dmax为0.5~0.8之间的任意值;
其中,ΔD=Dmax—Dmin;
Dmax表示锑纳米片材料和/或铋纳米片材料中,最厚的锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度;
Dmin表示锑纳米片材料和/或铋纳米片材料中,最薄的锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度。
在本发明金属纳米片的一个优选实施方案中,所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度范围为10~100nm之间的任意范围。
优选地,所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度范围为10~95nm。
更优选地,所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度范围为10~90nm。
最优选地,所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度为10nm~80nm。
例如,所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度可为纳10nm、16nm、17nm、35nm、40nm、45nm、52nm和/或80nm。
本发明的第二方面,提供一种金属烯,具体而言,提供锑烯材料和/或铋烯材料,所述锑烯材料和/或铋烯材料的厚度分布度Δd/dmax为0.07~0.3之间的任意值;
其中,Δd=dmax—dmin;
dmax表示锑烯材料和/或铋烯材料中,最厚的锑烯材料和/或铋烯材料的厚度;
dmin表示锑烯材料和/或铋烯材料中,最薄的锑烯材料和/或铋烯材料的厚度。
在本发明金属烯的一个优选实施方案中,所述锑烯材料和/或铋烯材料的厚度范围为0.5~1.5nm之间的任意范围;
优选地,所述锑烯材料和/或铋烯材料的厚度为0.75~1.33nm;
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