[发明专利]一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法有效

专利信息
申请号: 201911022152.0 申请日: 2019-10-25
公开(公告)号: CN110736959B 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 任仕伟;王贵愚;高巍 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01S3/14 分类号: G01S3/14;G01S3/782;G01S3/802
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 协同 构建 平面 阵列 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法,其特征在于,它包括步骤如下:

步骤1、确定平面互质阵列的基本参数;选取一对互质的自然数M1,M2,要求其中的M1可分解为两个自然数和p的乘积,即:

步骤2、在xOy坐标平面上分别构建平面互质阵列的两个子阵列;其中一个子阵列为由M2×M2个阵元组成的均匀正方形面阵,其相邻阵元间的间距为记为其中[r1:s:r2]表示从r1到r2以s为取值步进的取值范围;另一个子阵列为由M1×M1个阵元组成的均匀正方形面阵,其相邻阵元间的间距为M2d,记为其中d为入射信号的半波长,入射信号波长λ为已知;两个子阵列的最左下角阵元与坐标原点O重合;两个子阵列的底边均与x轴正向重合;两个子阵列的左纵边均与y轴的正向重合;

步骤3、将子阵列整体延y轴负方向平移距离,使子阵列的上边与x轴正向重合,此时

步骤4、再将子阵列整体延x轴正方向平移距离,使由子阵列和子阵列组成的平面互质阵列呈左右对称,对称轴为x=0.5M2(M1-1)d,此时

步骤5、再将子阵列整体延y轴负方向平移ld距离,l满足条件l取值越大,最终得到的和差协同阵自由度越高,此时

步骤6、重新设置x'O'y'坐标系;以子阵列的底边所在直线为x'轴,以子阵列和子阵列共同的左右对称的对称轴为新的y'轴,新的坐标原点O'位于子阵列的底边的中点处,即原xOy坐标系下的(0.5M2(M1-1)d,0)点;最终的子阵列阵元位置表示为

步骤7、由子阵列和子阵列的阵元生成和差协同阵列;

首先,由子阵列和子阵列的阵元位置坐标相互之间两两求差,得到的一系列差值坐标的集合,构成差分协同阵列,记为

其次,由子阵列和子阵列的阵元位置坐标相互之间两两求和,得到的一系列和值坐标,以及这些坐标的负值,共同组成的集合,构成和协同阵列,记为

最后,由和组成的并集构成和差协同阵列,记为

步骤8、利用和差协同阵列所包含的具有最多连续虚拟阵元的均匀矩形面阵,可实施各类波达方向估计算法,对空间信号的来波方向进行准确估计。

2.根据权利要求1所述的一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法,其特征在于,最终生成的差分协同阵列在x'轴的上下两侧各有一块均匀矩形面阵,其虚拟阵元位置的数学表达式为:

3.根据权利要求1所述的一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法,其特征在于,最终生成的和协同阵列在x'O'y'平面中心有一块均匀矩形面阵,其虚拟阵元位置的数学表达式为:

4.根据权利要求1所述的一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法,其特征在于,步骤7生成的和差协同阵列在x'O'y'平面中心有一块均匀矩形面阵,其虚拟阵元位置的数学表达式为:该连续范围所提供的阵列自由度为

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