[发明专利]一种在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法有效

专利信息
申请号: 201911017635.1 申请日: 2019-10-24
公开(公告)号: CN110735126B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 钱玉峰;孙方宏 申请(专利权)人: 江苏亿阀股份有限公司
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/32;C23C16/50;C23C28/04
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 王敏
地址: 212221 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基体 制备 碳化 过渡 掺杂 金刚石 复合 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,包括如下操作步骤:

S1.将基体(1)预处理后,采用等离子体增强化学气相沉积法沉积一层纳米晶碳化钨涂层(2);

S2.采用热丝化学气相沉积法,在所述纳米晶碳化钨涂层(2)表面沉积一层硅掺杂金刚石涂层(3);

S3.继续采用热丝化学气相沉积法在所述硅掺杂金刚石涂层(3)表面沉积一层本征金刚石涂层(4);

所述基体(1)为低碳钢或低合金钢中的任意一种,并且基体、碳化钨、硅掺杂金刚石涂层、本征金刚石涂层的硬度逐级增加。

2.根据权利要求1所述的在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,在所述S2中,等离子体增强化学气相沉积法沉积纳米晶碳化钨涂层(2),采用氟化钨、甲烷和氢气为原料气体,其中所述氟化钨气体流量为6sccm,甲烷流量160sccm,氢气流量200 sccm。

3.根据权利要求2所述的在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,在所述S2中,利用化学气相沉积法沉积纳米晶碳化钨涂层(2)的沉积条件为:沉积气压100-150 Pa,射频功率80kW,沉积时间180 min,基体温度800℃。

4.根据权利要求1所述的在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,所述纳米晶碳化钨涂层(2)的碳化钨晶粒直径为20-50nm。

5.根据权利要求1所述的在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,所述S2和S3采用HFCVD法连续沉积。

6.根据权利要求1所述的在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,在沉积所述硅掺杂金刚石涂层(3)时,碳源采用丙酮,碳源中掺杂正硅酸乙酯作为硅源,浓度为1000-9000ppm。

7.根据权利要求1所述的在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,在沉积所述硅掺杂金刚石涂层(3)时,氢气流量为2000sccm,混合溶液与氢气体积比为1-2%,反应气压为1200Pa,热丝温度为2200℃,基体温度约为800℃,偏压电流为4A,沉积时间为2h,沉积得到的硅掺杂金刚石晶粒直径为200nm-1μm。

8.根据权利要求1所述的在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法,其特征在于,在硅掺杂金刚石涂层表面沉积本征金刚石涂层,碳源采用丙酮,氢气流量为2000sccm,丙酮蒸汽与氢气体积比为1-2%,反应气压为1200-4500Pa,热丝温度为2200℃,基体温度约为800℃,偏压电流为4A,沉积时间为2-20h。

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