[发明专利]匀光元件及其随机规则制造方法和系统以及电子设备

权利要求书

1.一匀光元件的随机规则制造方法，其特征在于，包括步骤：

对微透镜的初始参数进行随机规则化处理，以在该匀光元件的微透镜阵列中每该微透镜的真实中心位置与初始中心位置之间添加一随机偏移量，其中该随机偏移量的大小在预定范围内是随机变化的，使得该微透镜阵列中的该微透镜在空间上进行有规则地随机排布。

2.如权利要求1所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，该随机偏移量包括一Z轴随机偏移量，其中该Z轴随机偏移量为该微透镜阵列中每该微透镜的该真实中心位置与该初始中心位置在空间坐标系的Z轴上的坐标差值。

3.如权利要求2所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，该随机偏移量进一步包括一X轴随机偏移量或/和一Y轴随机偏移量。

4.如权利要求1所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，所述对微透镜的初始参数进行随机规则化处理的步骤，包括步骤：

将该匀光元件的基底区域划分为多个网格区域，其中每该网格区域的中心位置作为对应的该微透镜的该初始中心位置；和

在每该微透镜的该初始中心位置上添加该随机偏移量，以得到该匀光元件的该微透镜阵列中每该微透镜的该真实中心位置。

5.如权利要求4所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，该匀光元件的该基底区域上所有的该网格区域的大小一致。

6.如权利要求5所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，每该网格区域具有矩形形状、三角形形状或梯形形状。

7.如权利要求4所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，每该微透镜的大小和形状与所在的该网格区域的大小和形状一致。

8.如权利要求1所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，每该微透镜沿Z轴方向的表面面型为一随机面型模型：

其中，ρ²＝(x_i-x₀-X_offset)²+(y_i-y₀-Y_offset)²

其中，R为每该微透镜的曲率半径；k为每该微透镜的圆锥常数；A_j为每该微透镜的非球面系数；x_i和y_i分别为每所述微透镜的表面点在本地坐标系中的坐标；x₀和y₀分别为每所述微透镜的初始中心位置在该本地坐标系中的坐标；X_offset、Y_offset以及Z_offset分别为在X轴方向、Y轴方向以及Z轴方向上的随机偏移量。

9.如权利要求1至8中任一所述的匀光元件的随机规则制造方法，在所述对微透镜的初始参数进行随机规则化处理的步骤之前，进一步包括步骤：

基于设计目标和光源参数，对该微透镜进行初始化处理，以确定该微透镜的初始参数。

10.如权利要求1至8中任一所述的匀光元件的随机规则制造方法，其中，所述对微透镜的初始参数进行随机规则化处理的步骤，进一步包括步骤：

对该微透镜的曲率半径、圆锥常数以及非球面系数中的至少一参数进行随机规则化处理，以使该微透镜的曲率半径、圆锥常数以及非球面系数中的相应参数在该预定范围内是随机变化的。