[发明专利]测量校正装置和测量校正方法

说明书

本发明公开了一种测量校正装置和测量校正方法。该测量校正装置包括：承载单元、基准单元、测量单元以及处理单元；承载单元包括朝向测量单元一侧的承载面，承载面包括第一区域以及包围第一区域的第二区域，第一区域用于承载待测样品，第二区域用于承载基准单元；基准单元固定于承载单元的第二区域；基准单元包括多个定位标记，定位标记在承载面内具有理论位置信息；测量单元用于测量至少部分定位标记在承载面的实际位置信息，并将实际位置信息传输至处理单元；处理单元用于根据实际位置信息和理论位置信息得到定位标记的位置校正信息。本发明的技术方案可减小测量校正误差，有利于精确校正，从而提高位置信息的测量精度。

技术领域

本发明实施例涉及测量技术领域，尤其涉及一种测量校正装置和测量校正方法。

背景技术

长寸量测设备是一种测量待测样品的位置信息的设备。长寸测量设备通常使用干涉仪等作为位置定位与测量系统，但由于干涉仪自身存在长期漂移，且长寸测量设备内部的机械结构也存在长期变化，导致其测量基板长寸的精度会受到影响。针对此问题，长寸测量设备需要进行定期性标定。目前标定方法通常为：采用基准标定板作为标定标准，将基准标定板上载至长寸测量设备进行测量修正。由于长寸测量设备量测的行程较大，基准标定板的尺寸通常只能覆盖长寸测量设备的一小部分，因此，需要多次挪动基准标定板的位置以有效校准(也称“校正”)全部行程内的测量误差。

但是，该标定方式中，基准标定板的尺寸较大，且需要多次人为干预测量，不仅在基准标定板的上载、存放与保护过程中存在损毁风险，且测量误差较高，容易导致测量精度较差。

发明内容

本发明提供一种测量校正装置和测量校正方法，以减小测量校正误差，从而提高测量精度。

第一方面，本发明实施例提出一种测量校正装置，该测量校正装置包括：承载单元、基准单元、测量单元以及处理单元；

所述承载单元包括朝向所述测量单元一侧的承载面，所述承载面包括第一区域以及包围所述第一区域的第二区域，所述第一区域用于承载待测样品，所述第二区域用于承载所述基准单元；

所述基准单元固定于所述承载单元的所述第二区域；所述基准单元包括多个定位标记，所述定位标记在所述承载面内具有理论位置信息；

所述测量单元用于测量至少部分所述定位标记在所述承载面的实际位置信息，并将所述实际位置信息传输至所述处理单元；

所述处理单元用于根据所述实际位置信息和所述理论位置信息得到所述定位标记的位置校正信息。

进一步地，所述第一区域包括相邻设置的第一侧边和第二侧边；

所述基准单元包括位于所述第一侧边外围的所述第二区域内的至少一个第一基准板，所述至少一个第一基准板沿行方向排布，所述行方向与所述第一侧边的延伸方向平行；

所述基准单元还包括位于所述第二侧边外围的所述第二区域内的至少一个第二基准板，所述至少一个第二基准板沿列方向排布，所述列方向与所述第二侧边的延伸方向平行。

进一步地，所述至少一个第一基板准的一行所述定位标记所定位的宽度等于或大于第一侧边的宽度；以及

所述至少一个第二基准板的一列所述定位标记所定位的宽度等于或大于所述第二侧边的宽度。

进一步地，所述至少一个第一基准板包括多个第一基准板，所述第一基准板在所述第一侧边外围的所述第二区域内呈阵列排布，每个所述第一基准板包括一个所述定位标记；

所述至少一个第二基准板包括多个第二基准板，所述第二基准板在所述第二侧边外围的所述第二区域内呈阵列排布，每个所述第二基准板包括一个所述定位标记。