[发明专利]一种用于等离子体装置的样品台

说明书

本发明公开了一种用于等离子体装置的样品台，包括样品座，样品座上开设有多个样品材料放置腔，样品座一侧开设有用于将其推入真空室的样品座推送装置，所述样品座包括基板，基板顶面中心嵌设有下绝缘件，下绝缘件顶面呈外圆弧状，两端对称设有互为间隔的上绝缘件，样品材料放置腔由下绝缘件与两个上绝缘件之间所形成的空间而构成，上绝缘件朝向样品材料放置腔的端面呈内圆弧状。本发明利用样品材料本身的预应力不同直接影响着离子入射能量的原理，通过利用夹持其的绝缘件等结构，能够有效的控制样品材料预应力的变化，从而达到了控制离子入射能量的效果。

技术领域

本发明涉及等离子体装置技术领域，具体涉及一种用于等离子体装置的样品台。

背景技术

等离子体装置，通常被用来研究等离子体与材料的相互作用的基础问题，如材料的物理溅射和化学刻蚀、材料中氢和氦滞留/起泡问题、等离子体破裂对材料的影响模拟等。

等离子体装置由于会产生大量的等离子体，所以其中心为高辐射区域，会产生大量热量。在其应用于聚变工程、高能物理等实验领域时，该装置工作区域为超高真空度环境，真空室极限真空度：≤1×10－5Pa，因此等离子体装置不仅要高温烘烤，而且要满足真空室整体罩检漏率1×10－10Pa•m3/s要求。

当前，虽然等离子体与材料相互作用的装置中对样品的夹持和温度控制的样品台已经存在，但在聚变工程、高能物理等实验领域中，不仅对真空度、冷却效率、实验参数的准确度有着极高的要求，另外在样品位置移动方便度及定位准确度的要求上也较为严格，还需同时使用多组样品材料进行作用，以便获得更可靠的多组实验参数，更好的进行实验分析。现有技术中的等离子体装置样品台大多无法满足上述要求。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种用于等离子体装置的样品台，尤其适用于聚变工程、高能物理等实验领域。

一种用于等离子体装置的样品台，包括样品座；所述样品座上开设有多个样品材料放置腔，样品座一侧开设有用于将其推入真空室的样品座推送装置，所述样品座包括基板，基板顶面中心嵌设有下绝缘件，下绝缘件顶面呈外圆弧状，两端对称设有互为间隔的上绝缘件，样品材料放置腔由下绝缘件与两个上绝缘件之间所形成的空间而构成，上绝缘件朝向样品材料放置腔的端面呈内圆弧状，上绝缘件的另一面设有防辐射板，防辐射板上开设有用于露出样品材料放置腔的缺口，防辐射板外设有用于调整上绝缘件对样品材料放置腔中样品材料压紧力度的压紧装置，基板的底面设有冷却装置。

作为对上述技术方案的进一步描述：

所述样品座推送装置包括波纹管，波纹管与样品座相连接，并设置在推动其运动的滑动平台中。

作为对上述技术方案的进一步描述：

所述防辐射板为钼板，压紧装置包括穿透于钼板及上绝缘件，连接在基板上的圆头钼螺栓。

作为对上述技术方案的进一步描述：

所述冷却装置为设置在基板底面的冷水槽。

本发明利用样品材料本身的预应力不同直接影响着离子入射能量的原理，通过利用夹持其的绝缘件等结构，能够有效的控制样品材料预应力的变化，从而达到了控制离子入射能量的效果。结合推送装置、样品座上多个样品材料放置腔上的设置，不仅能够获得更可靠的多组实验参数，更好的进行实验分析，而且使样品位置移动方便、定位准确，另外所需的真空度、冷却要求均能够满足较高的要求，可广泛应用于聚变工程、高能物理等实验领域。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的使用状态示意图；