[发明专利]一种多规格高纯铜靶材的制备方法

权利要求书

1.一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一、将高纯铜锭加热至温度为700~950℃，保温1~5h；

步骤二、对步骤一中加热后的高纯铜锭进行多道次热轧制至要求的铜靶坯尺寸，冷却至室温；多道热轧过程中高纯铜锭的变形量为：热轧制的第一道次轧制变形量为20%～50%，后续各道次轧制变形量为10%～40%，轧制累计变形量为60%～96%；

步骤三、对步骤二冷却后的铜靶坯采用校平机进行校平；

步骤四、对步骤三校平后的铜靶坯按需进行切割；

步骤五、将步骤四切割后的铜靶坯采用数控机床进行粗加工，多次铣削加工后的厚度为成品厚度加1~2mm，铣刀的单次铣削吃刀量为0.2~0.4mm，粗加工后靶坯表面粗糙度为1.6~6.4μm；

步骤六、将步骤五粗加工后的铜靶坯在校平机上碾压校平，在释放加工应力的同时，平整铜靶坯弯曲；

步骤七、校平后的铜靶坯在数控机床上精加工，多次铣削后加工至成品尺寸，铣刀的单次铣削的吃刀量为0.05~0.3mm，精加工后靶坯表面粗糙度为0.4~3.2μm。

2.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤一中的高纯铜锭的纯度≥99.99%。

3.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤二中热轧制的铜靶坯尺寸为2000～6000mm×1200～2300mm×10～25mm。

4.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤三中校平后的铜靶坯平面度为0.5～1mm。

5.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤四中轧制后的铜靶坯可切割为方靶坯，尺寸为1100～2300mm×1100～2300mm×10～25mm。

6.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤四中轧制后的铜靶坯可切割为长条形铜靶坯，尺寸为2000～3500mm×180～230mm×10～25mm。

7.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤六中校平后的铜靶坯平面度为0.2～1mm。

8.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤五和步骤七中的成品为方形高纯铜靶材，其尺寸为1100～2300mm×1100～2300mm×10～25mm。

9.根据权利要求1所述的一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：步骤五和步骤七中的成品为长条形高纯铜靶材，其尺寸为2000～3500mm×180～230mm×10～25mm。