[发明专利]掩膜版和显示面板及其制备方法在审
| 申请号： | 201910989534.4 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN110703489A | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 廖辉华 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F1/54 |
| 代理公司： | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人： | 李汉亮 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透光率 第二区域 第一区域 色阻 掩模版 重叠区域 制备 穿透 厚度降低 显示面板 依次设置 牛角 掩膜版 突起 膜层 | ||
1.一种掩膜版，其特征在于，包括沿第一方向依次设置的第一区域、第二区域以及第三区域，其中，所述第二区域的透光率大于所述第一区域的透光率，所述第二区域的透光率小于所述第三区域的透光率。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二区域包括至少两个间隔分布的遮光部。
3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光部沿第二方向排布，其中，所述第二方向垂直于所述第一方向。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，相邻的两个所述遮光部的间距相等。
5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，相邻的两个所述遮光部的间距范围为5um至15um。
6.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光部沿所述第一方向的长度范围为5um至10um。
7.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光部沿所述第二方向的长度范围为5um至15um。
8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
提供阵列基板；
在所述阵列基板上涂布彩色色阻材料；
采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层；
其中，所述掩模版为如权利要求1至7任一项所述的掩膜版。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述采用掩模版对彩色色阻材料处理，得到彩色色阻层，包括：
采用所述掩膜版对第一色阻材料进行曝光处理，制备得到第二色阻材料；
对所述第二色阻材料进行显影处理，制备得到彩色色阻层。
10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板采用如权利要求8所述的显示面板的制备方法所制备而成的。
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