[发明专利]一种抑制自发辐射的激光放大器

权利要求书

1.一种抑制自发辐射的激光放大器，其特征在于，所述激光放大器包括激光工作物质、掺钐水流管和石英水流管，其中：

所述激光工作物质在泵浦光激发下产生1064nm的受激辐射光；

嵌套同轴的掺钐水流管与石英水流管，且二者都位于所述激光工作物质的外侧，所述掺钐水流管由掺有钐离子的材料制成，用于吸收自发辐射光，从而减少激光放大器中的无用放大，实现对自发辐射的抑制；

所述激光工作物质的外侧通有冷却水。

2.如权利要求1所述的激光放大器，其特征在于，所述掺钐水流管由掺有Sm的SiO₂材料或者掺Sm的YAG晶体制成；或者掺杂Se元素；或者采用一价阳离子M⁺、Li⁺、Na⁺、K⁺或三价阳离子Me³⁺、Y,Sc³⁺、La³⁺、Gd³⁺作为格位调控离子，实现对吸收光谱特性的调整和控制。

3.根据权利要求1所述的激光放大器，其特征在于，所述石英水流管位于所述掺钐水流管的外侧，且二者之间通有冷却水。

4.根据权利要求1所述的激光放大器，其特征在于，所述掺钐水流管位于所述石英水流管的外侧。

5.根据权利要求1-4其中之一所述的激光放大器，其特征在于，所述掺钐水流管的内壁和/或外壁镀有泵浦光增透膜。

6.根据权利要求5所述的激光放大器，其特征在于，所述泵浦光增透膜为808nm增透膜。

7.根据权利要求1-4其中之一所述的激光放大器，其特征在于，所述掺钐水流管的内壁或外壁镀有自发辐射杂散光增透膜。