[发明专利]一种微纳米级台阶高度样板及其制备方法

权利要求书

1.一种微纳米级台阶高度样板，其特征在于，包括基座(1)、台阶结构(2)和防护层(3)；

所述台阶结构(2)设置于所述基座(1)上；

所述防护层(3)包覆所述基座(1)和所述台阶结构(2)。

2.根据权利要求1所述的微纳米级台阶高度样板，其特征在于，所述台阶结构(2)包括至少一个凸台。

3.根据权利要求2所述的微纳米级台阶高度样板，其特征在于，所述凸台的高度为500nm-400μm，所述凸台的测量面尺寸为1-5mm，所述基座的表面尺寸为10-50mm。

4.根据权利要求3所述的微纳米级台阶高度样板，其特征在于，所述基座(1)和所述凸台的材质为Cr12钢材；所述防护层(3)为磷化膜层。

5.一种微纳米级台阶高度样板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

对待加工材料粗切割，形成待处理样板，所述待处理样板包括基座(1)和台阶结构(2)；

对所述待处理样板进行热处理；

对经过热处理的所述待处理样板进行高精度磨床加工；

对经过高精度磨床加工后的所述待处理样板进行表面黑色磷化处理，得到微纳米级台阶高度样板；其中，所述微纳米级台阶高度样板的表面包括防护层(3)。

6.根据权利要求5所述的微纳米级台阶高度样板的制备方法，其特征在于，所述对所述待处理样板进行热处理，包括：

对所述待处理样板进行高温淬火、低温淬火和回火；

其中，所述高温淬火的温度为1100-1150℃，所述低温淬火的温度为960-1050℃，所述回火的温度为550-650℃。

7.根据权利要求6所述的微纳米级台阶高度样板的制备方法，其特征在于，所述对经过热处理的所述待处理样板进行高精度磨床加工，包括：

测量并调整所述待处理样板的测量面的表面粗糙度和平面度；所述待处理样板的测量面包括所述基座(1)的测量面和所述台阶结构(2)的测量面；测量并调整所述基座(1)的测量面与所述台阶结构(2)的测量面之间的平行度；

所述对经过高精度磨床加工后的所述待处理样板进行表面黑色磷化处理，包括：

对所述待处理样板依次进行脱脂处理、水洗处理、酸洗处理、水洗处理、中和处理、水洗处理、表调处理、磷化处理、水洗处理、脱水处理和浸油处理，其中，所述磷化处理包括：将所述待处理样板依次在常温碱液和磷化剂溶液中加热设定时间。

8.根据权利要求7所述的微纳米级台阶高度样板的制备方法，其特征在于，所述测量所述待处理样板的测量面的表面粗糙度，包括：

确定所述待处理样板的测量面测量位置集合；

确定所述测量位置集合中的每个所述测量位置的粗糙度集合；

基于所述粗糙度集合确定所述测量面粗糙度。

9.根据权利要求8所述的微纳米级台阶高度样板的制备方法，其特征在于，所述测量所述待处理样板的测量面的平面度，包括：

基于平晶干涉法和打表测量法测量所述待处理样板的测量面的平面度。

10.根据权利要求9所述的微纳米级台阶高度样板的制备方法，其特征在于，所述测量所述基座(1)的测量面与台阶结构(2)的测量面之间的平行度，包括：

基于偏摆仪、影像测量仪或三坐标测量机测量所述基座(1)的测量面与台阶结构(2)的测量面之间的平行度。