[发明专利]一种抗氧化的氧化铝/氮化钛硅复合涂层及其制备方法有效
| 申请号: | 201910973808.0 | 申请日: | 2019-10-14 |
| 公开(公告)号: | CN110643952B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
| 发明(设计)人: | 鲜广;鲜丽君;赵海波 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
| 主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 610207 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 氧化 氧化铝 氮化 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种抗氧化的氧化铝/氮化钛硅复合涂层,其特征在于,涂层是由高熵合金粘结层、氧化物模板层、氧化物核心层、氧化物过渡层、氮化物表层五个子层构成的整体,这五个子层的顺序是由内至外,涂层总厚度为1~3.5μm;所述高熵合金粘结层为CoaNibCrcAldYe,a+b+c+d+e=1,a、b、c、d、e的取值范围为0.15~0.4,厚度为50~200nm;所述氧化物模板层为α-Cr2O3,厚度为100~300nm;所述氧化物核心层为α-Al2O3,厚度为500~2000nm;所述氧化物过渡层为TiSiO,厚度为50~200nm;所述氮化物表层为TiSiN,厚度为300~800nm。
2.一种权利要求1所述的抗氧化的氧化铝/氮化钛硅复合涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
A、将清洁的基底材料装入涂层设备真空室中,抽真空并加热,先将背底真空抽至0.05Pa及以下时,打开炉壁的辅助加热装置对基底进行加热,同时打开机架转动电源使基底在真空室内进行自转和公转运动,至基底温度达到380℃;
B、对基底表面进行离子刻蚀,向真空室中通入氩气,调节氩气流量保证压强为0.1~0.25Pa,然后对基底施加-100~-200V的直流偏压和-200~-400V的脉冲偏压,利用离化的Ar+对基底表面进行刻蚀,刻蚀30~90min;
C、利用电弧蒸镀工艺制备高熵合金粘结层,工作压强为0.1~0.2Pa,蒸镀坩埚上通过的电弧电流为180~220A,蒸镀坩埚内放置的材料为CoaNibCrcAldYe高熵合金, a+b+c+d+e=1,a、b、c、d、e的取值范围为0.15~0.4,蒸镀时间为5~10min;
D、利用阴极电弧镀膜工艺制备氧化物模板层,工作气体为Ar+O2,工作压强为1.5~3.5Pa,工作靶材为Cr电弧靶,靶电流为50~100A,基底施加的偏压为-30~-90V,沉积时间8~20min;
E、利用阴极电弧镀膜工艺制备氧化物核心层,工作气体为Ar+O2,工作压强为1.0~3.0Pa,工作靶材为Al电弧靶,靶电流为80~120A,基底施加的偏压为-30~-90V,沉积时间40~150min;
F、利用阴极电弧镀膜工艺制备氧化物过渡层,工作气体为Ar+O2,工作压强为1.0~3.0Pa,工作靶材为TiSi合金电弧靶,靶电流为80~120A,基底施加的偏压为-30~-90V,沉积时间8~15min;
G、利用阴极电弧镀膜工艺制备氮化物表层,工作气体为N2,工作压强为1.5~3.5Pa,工作靶材为TiSi合金电弧靶,靶电流为80~120A,基底施加的偏压为-30~-90V,沉积时间20~45min。
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