[发明专利]一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备

说明书

本发明公开了一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备，属于静电植砂的设备技术领域。本发明的一种提高植砂均匀性的静电植砂结构，包括输送带、上极板、下极板；其中，上极板布置于下极板上方，用于产生使砂粒向上运动的电力场；输送带布置于上极板与下极板之间，用于输送砂粒；基材行走路径位于上极板与输送带之间，基材行走路径是植砂时基材行走的路径；还包括筛网，筛网布置于输送带与基材行走路径之间，用于均匀化砂粒，以使得砂粒先上升穿过筛网被均匀化后、再附着于基材上。采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上，生产的产品质量更佳。

技术领域

本发明涉及一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备，属于静电植砂的设备技术领域。

背景技术

目前，基材的静电植砂作业一般采用逆向植砂或顺向植砂。

逆向植砂的静电植砂装置如图1所示，砂粒7通过下砂装置2下落到输砂带1上后被运输到上极板3和下极板4之间，在上极板3与下极板4之间产生的电力场的作用下，砂粒7上升并附着到涂有粘结剂的基材6上，基材6再被基材导辊5导向进入烤箱进行固化，此装置因为输砂带上砂粒运动方向与基材运动方向相反，故而称为逆向植砂。

与图1所示的逆向植砂不同之处，顺向植砂的静电植砂装置如图2所示，此装置的输砂带1上砂粒运动方向与基材运动方向相同，故而称为顺向植砂。这两种植砂方式是采用的现有的静电植砂方法：使附着有粘接剂的基材6行走经过电力场，将砂粒7传输至电力场内，在电力场的作用下，砂粒7上升附着于基材6上。这两种植砂方式都是砂粒在上、下极板产生的电力场的作用下直接上升并附着到基材上的，植砂的均匀性因下砂的均匀性而受到极大影响，同时在电力场中砂粒之间产生相互碰撞也会造成植砂的局部不均。

发明内容

本发明的发明目的在于：针对上述存在的问题，提供一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备，采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上。

本发明采用的技术方案如下：

一种提高植砂均匀性的静电植砂结构，包括输送带、上极板、下极板；其中，上极板布置于下极板上方，用于产生使砂粒向上运动的电力场；输送带布置于上极板与下极板之间，用于输送砂粒；基材行走路径位于上极板与输送带之间，基材行走路径是植砂时基材行走的路径；还包括筛网，筛网布置于输送带与基材行走路径之间，用于均匀化砂粒，以使得砂粒先上升穿过筛网被均匀化后、再附着于基材上。

采用本发明的静电植砂结构进行基材的植砂作业时，其动作过程原理是：附着有粘接剂的基材沿基材行走路径行走于上极板与输送带之间，基材行走于筛网的上方，而筛网位于输送带上方，上极板与下极板之间产生有用于使砂粒向上运动的电力场，通过输送带将砂粒输送至上极板与下极板之间时，砂粒在电力场的作用下向上移动，得益于筛网的设计，筛网处于了砂粒的上升路径上，那么砂粒将被筛网均匀化之后才能附着于基材上，从而提高了植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上。

一种静电植砂设备，包括上述的静电植砂结构。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：

本发明的一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备，本发明构思巧妙，采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上，生产的产品质量更佳。

附图说明

本发明将通过例子并参照附图的方式说明，其中：

图1是背景技术的逆向植砂的静电植砂结构原理图；

图2是背景技术的同向植砂的静电植砂结构原理图；

图3是本发明的逆向植砂的提高植砂均匀性的静电植砂结构原理图；