[发明专利]一种柔光砖防污处理工艺

权利要求书

1.一种柔光砖防污处理工艺，其特征在于，包括如下步骤：

(1)抛光处理：砖胚进入抛光线进行抛光，所述抛光线由多个磨块组成，所述磨块的最佳排列方法为：150目弹性磨块16组，240目的弹性磨块8组，230目弹性磨块5组，400目弹性磨块10组，600目弹性磨块8组，180目炭刷磨块3组，240目纤维磨块13组，320目纤维磨块9组；

(2)超洁亮处理：抛光后的砖胚进行超洁亮处理；

(3)纳米防污处理：经超洁亮的砖胚，使用纳米液进行防污处理。

2.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述纳米液按重量份数包括：溶剂油94-97份、硅油1-2份、分散剂0.04-1.06份、含氰剂2-3份、10号纳剂0.5-0.7份、催化剂0.03-0.05份。

3.根据权利要求2所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述纳米液的质量配比根据瓷砖表面要求的光度及釉料、烧成的毛细孔大小进行调整。

4.根据权利要求2所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述纳米液的质量配比是：溶剂油96、硅油1.5、分散剂0.05、含氰剂2.5、10号纳剂0.6、催化剂0.04。

5.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述超洁亮处理步骤中经超洁亮前砖胚加热至46-50℃，使用高速磨盘加工小于1分钟。

6.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述纳米防污处理步骤中纳米液的使用量为0.3-0.5g/砖，且纳米液的使用量从进砖胚到出砖胚依次减少。

7.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述纳米防污处理步骤中防污处理的磨头包括羊毛垫和海绵垫，所述羊毛垫位于海绵垫的前面。

8.根据权利要求7所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述纳米防污处理步骤中纳米液使用后在70-80℃之间使用羊毛垫和海绵垫加工约一分钟。

9.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺，其特征在于，所述抛光处理步骤中抛光时用水量大于抛光砖胚用水量的三分之一。

10.一种防污柔光砖，其特征在于，所述防污柔光砖采用权利要求1-9中任一项所述的柔光砖防污处理工艺制备而成。