[发明专利]自支撑的三维纳米多孔结构的金线微电极的制备方法

权利要求书

1.一种自支撑的三维纳米多孔结构的金线微电极的制备方法，其特征在于：所述的金线微电极包括金线电极，其表面具有三维纳米多孔结构，由三维贯通结构的金纳米材料构成；所述金线微电极是以金线自身为模板，经由电化学合金-去合金方法刻蚀而成；

所述的制备方法包括如下步骤：

1)将金线电极表面进行预处理；

2)将氯化锌超声分散到苯甲醇中，配制成电解液，其浓度为1.0-2.0mol/L；

3)将步骤1)预处理后的金线电极，放入含有步骤2)的电解液的电解池中，用作工作电极；同时在电解池中分别插入对电极和参比电极；

4)将各电极对应连接到电化学工作站上，设置循环伏安操作参数后进行电化学反应，其中，扫描电位区间：-0.72-1.88V，扫描速率：10mV/s,循环次数：20-50次；反应温度：100-180℃；

5)反应结束后，从电解液中取出金线电极，充分洗涤后，在氮气氛围中干燥，制得所述的三维纳米多孔结构的金线微电极。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤1)所述的金线电极的直径在0.1-0.5mm之间。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中所述的金线电极表面预处理的方法为：进行抛光打磨后，在水和乙醇溶液中超声清洗。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤3)中所述的对电极和参比电极分别选为锌片和锌线。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤5)所述的洗涤方法为：依次在丙酮、乙醇和纯水溶液中超声清洗处理。