[发明专利]玻璃腐蚀的复合掩膜结构及玻璃腐蚀的方法在审
| 申请号： | 201910958513.6 | 申请日： | 2019-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN110845146A | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 张照云;唐彬;刘显学;熊壮;李枚;许蔚;苏伟;彭勃 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院电子工程研究所 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C03C17/38 |
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| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 腐蚀 复合 膜结构 方法 | ||
1.一种玻璃腐蚀的复合掩膜结构，其特征在于，所述玻璃腐蚀的复合掩膜结构包括：自玻璃基片依次设置的第一金属打底层、第一金属层、第二金属打底层、第二金属层以及光刻胶层；
其中，所述第一金属打底层及所述第二金属打底层为金属Cr层；
其中，所述第一金属层和所述第二金属层为金属Au或金属Cu。
2.根据权利要求1所述的玻璃腐蚀的复合掩膜结构，其特征在于，所述第一金属打底层和所述第二金属打底层的厚度为10-3000nm，所述第一金属层和所述第二金属层的厚度为100-20000nm，所述光刻胶层的厚度为1-50μm。
3.根据权利要求1所述的玻璃腐蚀的复合掩膜结构，其特征在于，所述第一金属打底层和所述第二金属打底层的厚度为10-50nm，所述第一金属层和所述第二金属层的厚度为100-500nm，所述光刻胶层的厚度为1-50μm。
4.根据权利要求1所述的玻璃腐蚀的复合掩膜结构，其特征在于，所述光刻胶层为负性光刻胶层。
5.根据权利要求1所述的玻璃腐蚀的复合掩膜结构，其特征在于，所述光刻胶层由SU-8系列光刻胶制成。
6.根据权利要求5所述的玻璃腐蚀的复合掩膜结构，其特征在于，所述光刻胶层由SU-82025光刻胶制成。
7.一种玻璃腐蚀的方法，其特征在于，所述玻璃腐蚀的方法包括：
在玻璃基片的上下两面依次溅射第一金属打底层、第一金属层、第二金属打底层、第二金属层；
在第二金属层上旋涂光刻胶；
对所述玻璃基片的一面进行光刻，形成玻璃腐蚀光刻图形；
基于所述玻璃腐蚀光刻图形腐蚀玻璃基片上的第二金属层、第二金属打底层、第一金属层、第一金属打底层，在玻璃基础上暴露出玻璃腐蚀图形窗口；
利用腐蚀液通过所述玻璃腐蚀图形窗口腐蚀玻璃基材。
8.根据权利要求7所述的玻璃腐蚀的方法，其特征在于，还包括：
去除所述玻璃基片上的光刻胶；
去除第二金属层、第二金属打底层、第一金属层、第一金属打底层。
9.根据权利要求7所述的玻璃腐蚀的方法，其特征在于，所述第一金属打底层的厚度为100-500Ǻ、第一金属层的厚度为1000-5000 Ǻ、第二金属打底层的厚度为100-500 Ǻ、第二金属层的厚度为1000-3000 Ǻ。
10.根据权利要求7所述的玻璃腐蚀的方法，其特征在于，所述腐蚀液中包括氢氟酸溶液和/或氟化氢铵溶液。
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