[发明专利]一种屏蔽罩平面度检测方法、装置、终端设备及存储介质

权利要求书

1.一种屏蔽罩平面度检测方法，其特征在于，包括：

分别获取屏蔽罩的各个底边的边缘图像，所述边缘图像包括第一边缘图像和第二边缘图像，所述第一边缘图像由置于所述屏蔽罩上方的双目相机的左相机采集，所述第二边缘图像由所述双目相机的右相机采集；

从所述边缘图像中分别提取所述各个底边的边缘骨架；

计算所述第一边缘图像中的所述边缘骨架的各个边缘点的第一平均坐标，并计算所述第二边缘图像中的所述边缘骨架的各个边缘点的第二平均坐标；

根据所述第一平均坐标和所述第二平均坐标计算所述双目相机的平均视差，并根据所述平均视差确定匹配点搜索范围；

在所述第一边缘图像和所述第二边缘图像中对所述边缘骨架中的各个边缘点进行匹配，并根据匹配结果计算所述各个边缘点的深度；其中，对于所述第一边缘图像中的任意一个边缘点，根据所述匹配点搜索范围在所述第二边缘图像中进行扫描，将扫描到的第一个未匹配的边缘点确定为匹配点；

根据所述各个边缘点的深度计算平均深度；

计算所述各个边缘点的深度与所述平均深度的差值；

将所述差值在预设阈值范围外的边缘点视为疑似缺陷点；

将疑似缺陷点个数大于预设值的区域判定为平面度不合格区域；

若不存在所述平面度不合格区域，则判定所述屏蔽罩的平面度合格。

2.如权利要求1所述的屏蔽罩平面度检测方法，其特征在于，所述分别获取屏蔽罩的各个底边的边缘图像包括：

获取所述双目相机对预设光源照明后的所述屏蔽罩进行拍摄得到的图像；

对所述图像进行预处理，得到预处理后的图像；

对所述预处理后的图像进行检测，获取所述屏蔽罩的各个底边的边缘图像。

3.如权利要求1所述的屏蔽罩平面度检测方法，其特征在于，所述从所述各个底边的边缘图像中分别提取所述各个底边的边缘骨架包括：

计算所述各个底边的边缘图像的轮廓；

对所述各个底边的边缘图像的轮廓进行形态学处理，获取所述各个底边的边缘骨架。

4.如权利要求1所述的屏蔽罩平面度检测方法，其特征在于，所述在所述第一边缘图像和所述第二边缘图像中对所述边缘骨架中的各个边缘点进行匹配，并根据匹配结果计算所述各个边缘点的深度包括：

在所述第一边缘图像和所述第二边缘图像中对所述边缘骨架中的各个边缘点进行匹配，并根据匹配结果计算所述各个边缘点的视差；

根据所述各个边缘点的视差计算所述各个边缘点的深度。

5.一种屏蔽罩平面度检测装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于分别获取屏蔽罩的各个底边的边缘图像，所述边缘图像包括第一边缘图像和第二边缘图像，所述第一边缘图像由置于所述屏蔽罩上方的双目相机的左相机采集，所述第二边缘图像由所述双目相机的右相机采集；

提取模块，用于从所述边缘图像中分别提取所述各个底边的边缘骨架；

匹配模块，用于计算所述第一边缘图像中的所述边缘骨架的各个边缘点的第一平均坐标，并计算所述第二边缘图像中的所述边缘骨架的各个边缘点的第二平均坐标；根据所述第一平均坐标和所述第二平均坐标计算所述双目相机的平均视差，并根据所述平均视差确定匹配点搜索范围；在所述第一边缘图像和所述第二边缘图像中对所述边缘骨架中的各个边缘点进行匹配，并根据匹配结果计算所述各个边缘点的深度；其中，对于所述第一边缘图像中的任意一个边缘点，根据所述匹配点搜索范围在所述第二边缘图像中进行扫描，将扫描到的第一个未匹配的边缘点确定为匹配点；

判断模块，用于根据所述各个边缘点的深度计算平均深度；计算所述各个边缘点的深度与所述平均深度的差值；将所述差值在预设阈值范围外的边缘点视为疑似缺陷点；将疑似缺陷点个数大于预设值的区域判定为平面度不合格区域；若不存在所述平面度不合格区域，则判定所述屏蔽罩的平面度合格。