[发明专利]一种复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法有效
| 申请号: | 201910956834.2 | 申请日: | 2019-10-10 |
| 公开(公告)号: | CN110657723B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
| 发明(设计)人: | 李祥龙;王子琛;张智宇;杨阳;王建国;吴霄;张其虎;侯猛;袁芝斌;母永烨 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
| 主分类号: | F42D1/08 | 分类号: | F42D1/08;F42D3/04 |
| 代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 张玺 |
| 地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 复杂 环境 下逐孔 起爆 光面 爆破 方法 | ||
1.一种复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于,具体步骤如下:
(1)在复杂环境下设计开挖基坑轮廓线上均匀布置预裂孔,预裂孔内设置轴向不耦合空气间隔装药装置;
(2)在基坑开挖面的主爆区中心轴对称布置两排平行的中心孔,中心孔的外侧开设若干排交错的主爆孔,主爆孔的排距相等,主爆孔的孔距相等,主爆孔与预裂孔之间开设一排辅助边缘孔,若开挖基坑轮廓线为直线,辅助边缘孔的连线与预裂孔的连线平行;若开挖基坑轮廓线为弧形线,辅助边缘孔的连线为弧线且弧度与开挖基坑轮廓线弧度相同,在辅助边缘孔与预裂孔之间设置一排或两排辅助主爆孔,辅助主爆孔的连线与开挖基坑弧形轮廓线的弧度相同,中心孔、主爆孔、辅助边缘孔、辅助主爆孔内均设置轴向不耦合空气间隔装药装置,预裂孔、中心孔、主爆孔、辅助边缘孔、辅助主爆孔的孔径相同;
(3)预裂孔内的轴向不耦合空气间隔装药装置通过数码电子雷管控制精确延期逐孔起爆形成边界裂缝,中心孔内的轴向不耦合空气间隔装药装置通过数码电子雷管控制精确延期逐排逐孔起爆,主爆孔内的轴向不耦合空气间隔装药装置通过数码电子雷管控制精确延期逐排逐孔起爆,辅助主爆孔的轴向不耦合空气间隔装药装置通过数码电子雷管控制精确延期逐孔起爆,辅助边缘孔的轴向不耦合空气间隔装药装置通过数码电子雷管控制精确延期逐孔起爆;
(4)预裂孔、中心孔、主爆孔、辅助主爆孔和辅助边缘孔依次起爆。
2.根据权利要求1所述复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于:预裂孔的孔径为50~200mm,预裂孔的孔间距为孔直径的7~ 9倍,预裂孔的数码电子雷管的延期时间为6~12 ms。
3.根据权利要求1所述复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于:辅助边缘孔的孔径为50~200mm,辅助边缘孔的孔距为孔直径的7~9倍,若开挖基坑轮廓线为直线,辅助边缘孔与主爆孔的间距为孔直径的7~9倍,辅助边缘孔与相邻排主爆孔的延期时间为6~12ms;若开挖基坑轮廓线为弧线,辅助边缘孔与辅助主爆孔的间距为孔直径的7~ 9倍,辅助边缘孔与相邻排辅助主爆孔的延期时间为6~12ms。
4.根据权利要求3所述复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于:辅助边缘孔的钻孔倾斜角相同且与水平面的夹角均为70~80°。
5.根据权利要求1所述复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于:中心孔的孔间距为孔径的7~ 9倍,中心孔与相邻排主爆孔的排间距为孔间距的7~9倍,每排主爆孔的孔间距为孔径的7~9倍,相邻排主爆孔的排间距为孔间距的7~9倍,主爆孔的数码电子雷管的孔间延期时间为7~9 ms,主爆孔的数码电子雷管的排间延期时间为6~12 ms,每排辅助主爆孔的孔间距为孔径的7~9倍,相邻排辅助主爆孔的排间距为孔径的7~9倍,辅助主爆孔的连线与相邻主爆孔的间距为孔径的7~9倍 。
6.根据权利要求5所述复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于:中心孔、主爆孔、辅助主爆孔的钻孔倾斜角相同且与水平面的夹角均为60~70°。
7.根据权利要求1所述复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于:预裂孔垂直于地平面。
8.根据权利要求1所述复杂环境下逐孔起爆的光面爆破方法,其特征在于:所述复杂环境为爆破区边缘200米内有文物古迹、城市重要建筑或乡村重要建筑。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910956834.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





