[发明专利]一种杀菌自洁玻璃及其生产工艺

权利要求书

1.一种杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述玻璃包括：

玻璃基片；

由下至上层叠设置于所述玻璃基片面层上的Si₃N₄层、SnO_x层以及TiO_x层。

2.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述杀菌自洁玻璃的可见光透过率≤80。

3.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述Si₃N₄层的厚度为40~45nm。

4.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述SnO_x层的厚度为20~25nm。

5.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述TiO_x层厚度为40~50nm。

6.一种如权利要求1~5中任一项所述的杀菌自洁玻璃的生产工艺，其特征在于，所述生产工艺包括如下步骤：

1)取玻璃基片，送至送入磁控溅射镀膜室内，采用直流电源，以N₂和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内N₂和Ar的比例为80：20，反应气体的气压为2.0mt，在玻璃基片的面层上磁控溅射Si₃N₄层；

2)采用直流电源，以O₂和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内O₂和Ar的比例为80：20，反应气体的气压为2.0mt，在Si₃N₄层远离玻璃基片一面磁控溅射SnO_x层；

3)采用直流电源，以O₂、N₂和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内O₂、N₂和Ar的比例为40：40：20，反应气体的气压为2.0mt，在所述SnO_x层远离Si₃N₄层一面磁控溅射TiO_x层，得到所述杀菌自洁玻璃。