[发明专利]一种双银低辐射玻璃及其生产工艺

说明书

本发明提供一种双银低辐射玻璃及其生产工艺，所述双银低辐射玻璃包括：玻璃基片；所述玻璃基片表面设有双银低辐射膜层，所述双银低辐射膜层包括由内至外依次设置于所述玻璃基片一面的第一SnO_x层、第一ZnO_x层、第一AgTi层、第二ZnO_x层、第二SnO_x层、第三ZnO_x层、第二AgTi层、第四ZnO_x层以及第三SnO_x层；所述双银低辐射膜层通过磁控溅镀工艺镀膜于玻璃基片表面。所述双银低辐射玻璃，在玻璃基片表面通过磁控溅射工艺镀双银低辐射膜层，所得双银低辐射玻璃可见光透过率高，遮阳系数高，传热性能好，生产制造成本低，经济效益好。

技术领域

本发明属于玻璃生产技术领域，具体地，涉及一种双银低辐射玻璃及其生产工艺。

背景技术

Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。

玻璃是重要的建筑材料，随着对建筑物装饰性要求的不断提高，玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。然而，当今人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题。这就使得镀膜玻璃家族中的新贵—Low-E玻璃脱颖而出，成为人们关注的焦点。

对于低辐射玻璃，公开号为CN105174744B的中国专利公开了一种双银低辐射镀膜玻璃及基于该镀膜玻璃的夹层玻璃制品，自玻璃层向外依次为底层介质层或钠阻挡层、附着力增强层I、银功能层I、保护层I、中间介质层、附着力增强层II、银功能层II、顶层介质层或保护层II，所述保护层中含有Cr³⁺和Cr⁶⁺离子，其中：保护层中Cr³⁺和Cr⁶⁺的摩尔比为1:2.8~3.2，介质层含有SnO₂、SiO₂。然而，该专利所提供的双银低辐射镀膜玻璃，结构复杂，生产成本高。

发明内容

为解决上述存在的问题，本发明的目的在于提供一种双银低辐射玻璃及其生产工艺，所述双银低辐射玻璃，在玻璃基片表面通过磁控溅射工艺镀双银低辐射膜层，所得双银低辐射玻璃可见光透过率高，遮阳系数高，传热性能好，生产制造成本低，经济效益好。

为达到上述目的，本发明的技术方案是：

一种双银低辐射玻璃，所述双银低辐射玻璃包括：玻璃基片；所述玻璃基片表面设有双银低辐射膜层，所述双银低辐射膜层包括由内至外依次设置于所述玻璃基片一面的第一SnO_x层、第一ZnO_x层、第一AgTi层、第二ZnO_x层、第二SnO_x层、第三ZnO_x层、第二AgTi层、第四ZnO_x层以及第三SnO_x层；所述双银低辐射膜层通过磁控溅镀工艺镀膜于玻璃基片表面。

进一步地，所述玻璃基片为白玻璃，玻璃基片的厚度为5~10mm。

进一步地，所述双银低辐射玻璃的遮阳系数≤0.48。

进一步地，所述双银低辐射玻璃的传热系数为1.5~1.8。

进一步地，所述双银低辐射玻璃的可见光透过率为75%。

同时，本发明还提供一种双银低辐射玻璃的生产工艺，所述生产工艺包括如下步骤：

1)将玻璃基片送入磁控溅射镀膜室内，采用直流电源，功率调至32KW，以O₂和Ar气的混合气体作为反应气体，反应气体的气压为2.0mt，在玻璃基片表面磁控溅射第一SnO_x层；