[发明专利]照明条件自动校正的方法、装置、设备和存储介质在审
申请号: | 201910950346.0 | 申请日: | 2019-10-08 |
公开(公告)号: | CN112631079A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 胡立元 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G06F16/11;G06F16/16 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 张彬彬 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 条件 自动 校正 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
本申请涉及一种照明条件自动校正的方法、装置、设备和存储介质。其中,照明条件自动校正的方法通过检测曝光机台的服务器上存储的校正记录文件;若待执行的照明条件设定对应的校正记录文件缺失,则根据缺失的校正记录文件的类型,进行相应的照明条件校正,并将照明条件校正得到的结果文件保存为缺失的校正记录文件的,实现自动对各个照明条件设定进行校正和确认。基于此,能够减少设备工程师进无尘室的次数,减少借机、人为操作等造成的时间损失,提高生产效率;同时,保存的照明条件设定对应的校正记录文件,可方便工艺工程师确认相关晶圆层的照明条件是否满足要求,以便执行后续的制程。
技术领域
本申请涉及半导体曝光技术领域,特别是涉及一种照明条件自动校正的方法、装置、设备和存储介质。
背景技术
晶圆的曝光制程中,当某个层应用新的照明条件设定(illumination setting)时,由于工艺要求,该照明条件设定的曝光缝隙均匀度(slit uniformity)需要满足一定的标准。因此,需要对该照明条件设定进行照明条件系统校正(Fine optimization),并确认曝光缝隙均匀度和照明条件形状是否满足标准。
在实现过程中,发明人发现传统技术中至少存在如下问题:晶圆的曝光制程涉及多个层,关联了多个照明条件设定;传统技术需要设备工程师手动操作来对各个照明条件设定的曝光缝隙均匀度进行校正和确认,导致生产效率低。
发明内容
基于此,有必要针对传统技术中,校正和确认晶圆的各个曝光缝隙均匀度的过程会导致生产效率低的问题,提供一种照明条件自动校正的方法、装置、设备和存储介质。
为了实现上述目的,一方面,本申请实施例提供了一种照明条件自动校正的方法,包括:
检查曝光机台的服务器上存储的、与照明条件设定对应的校正记录文件。
若校正记录文件缺失,则根据缺失的校正记录文件,进行相应的照明条件校正,根据照明条件校正得到的结果更新对应的照明条件设定,并将照明条件校正得到的结果存储为校正记录文件。
其中,校正记录文件包括照明条件系统校正文件和曝光缝隙均匀度检测文件中的至少一种;照明条件校正包括照明条件系统校正和曝光缝隙均匀度检测中的至少一种。
在其中一个实施例中,根据缺失的校正记录文件,进行相应的照明条件校正,根据照明条件校正得到的结果更新对应的照明条件设定,并将照明条件校正得到的结果存储为对应的校正记录文件的步骤包括:
当缺失的校正记录文件包括照明条件系统校正文件时,进行照明条件系统校正,再进行曝光缝隙均匀度检测,根据照明条件系统校正得到的结果更新照明条件设定,并将照明条件系统校正得到的结果存储为照明条件系统校正文件,将曝光缝隙均匀度检测得到的结果存储为曝光缝隙均匀度检测文件。
当缺失的校正记录文件仅为曝光缝隙均匀度检测文件时,进行曝光缝隙均匀度检测,将曝光缝隙均匀度检测得到的结果存储为曝光缝隙均匀度检测文件。
在其中一个实施例中,根据缺失的校正记录文件,进行相应的照明条件校正,根据照明条件校正得到的结果更新对应的照明条件设定,并将照明条件校正得到的结果存储为对应的校正记录文件的步骤之后,还包括:
在完成照明条件校正时,更新并保存照明条件设定对应的机器常数。
在其中一个实施例中,检查曝光机台的服务器上存储的、与照明条件设定对应的校正记录文件的步骤之前,还包括:
获取曝光机台待曝光的产品、工艺步骤以及关联的照明条件设定。
检查曝光机台的服务器上存储的、与照明条件设定对应的校正记录文件的步骤之后,还包括:
在检查到服务器保存有照明条件设定对应的所有校正记录文件时,根据照明条件设定进行曝光处理。
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