[发明专利]气囊内窥镜再处理系统和方法

说明书

本发明涉及气囊内窥镜再处理系统和方法，该方法包括：将要再处理的气囊内窥镜引入内窥镜再处理系统中；在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行再处理；之后对气囊内窥镜的气囊充气；之后使气囊内窥镜的气囊放气；以及在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行进一步再处理。

本申请是申请号为201580070196.4、申请日为2015年11月26日、发明名称为“气囊内窥镜再处理系统和方法”的中国发明专利申请的分案申请。

相关申请的引用

本文引用2014年12月22日提交的发明名称为“Endoscopic Reprocessing SystemUtilizing Negative and Positive Pressure Leak Testing”的美国临时专利申请No.62/124/551，该美国临时专利申请的全部内容以引用的方式并入本文，并且本文依据37CFR 1.78(a)要求该美国临时专利申请的优先权。

还引用申请人的以下已公开的PCT专利申请：WO2005/074377；WO2007/017854；WO2007/135665；WO2008/004228；WO2008/142685；WO2009/122395；WO2010/046891；WO2010/137025；WO2011/111040；WO/2012/120492；WO/2014/068569和WO2014/188402，这些专利申请的内容以引用的方式并入本文。

技术领域

本发明总体上涉及内窥镜再处理方法和系统，并更具体地涉及气囊内窥镜的再处理。

背景技术

已知用于再处理内窥镜的多种类型的方法和系统。

发明内容

本发明旨在提供用于再处理内窥镜的改进的方法和系统。

因此，根据本发明的优选实施例，提供一种用于气囊内窥镜的再处理方法，该方法包括：将要再处理的气囊内窥镜引入内窥镜再处理系统中；在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行再处理；之后对气囊内窥镜的气囊充气；之后使气囊内窥镜的气囊放气；以及在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行进一步再处理。

根据本发明的优选实施例，当对气囊充气时，不对气囊内窥镜执行再处理。可选地，当对气囊充气时，以不损坏气囊的方式对气囊内窥镜执行有限的再处理。另外，上述有限的再处理包括以下程序中的至少一个程序：暂停内窥镜再处理系统的再处理室中的活动件的操作；暂停对内窥镜再处理系统所使用的溶液的加热；以及监测并控制气囊中的压力以防止气囊过度充气。

根据本发明的优选实施例，上述再处理方法由内窥镜再处理系统来实施，内窥镜再处理系统包括再处理控制器，再处理控制器至少具有以下操作阶段：第一气囊内窥镜气囊放气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈第一气囊放气构型；当气囊内窥镜的气囊呈第一气囊放气构型时的再处理阶段；气囊充气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈气囊充气构型；在气囊充气阶段之后的另一气囊放气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型；以及当气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型时的进一步再处理阶段。

根据本发明的优选实施例，上述再处理方法由内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施，并且之后对气囊内窥镜的气囊充气和之后使气囊内窥镜的气囊放气中的至少一者是利用独立的泄漏测试装置来执行的。更优选地，上述再处理方法由内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施，并且之后对气囊内窥镜的气囊充气和之后使气囊内窥镜的气囊放气是利用独立的泄漏测试装置来执行的。