[发明专利]一种取代脲类化合物的合成方法

说明书

本发明公开了一种取代脲类化合物的合成方法，该方法将醛、N‑芳基脲、三氯氢硅和路易斯碱于有机溶剂中在‑20℃～室温搅拌反应，后处理，得到取代脲类化合物；所述醛和N‑芳基脲的摩尔比为1：(1～2)；所述醛和路易斯碱的摩尔比为1：(0.01～5)；所述醛和三氯氢硅的摩尔比为1：(1～2)。其中，R₁为C₁～C₅的饱和烷基、无取代或取代芳香环；R₂为H、吸电子取代基或供电子取代基。本发明的方法以小分子路易斯碱催化三氯氢硅，实现脲的还原烷基化，一锅法即可合成，操作简单，反应时间短，底物毒性小，且低廉易得，反应条件温和，安全性高。

技术领域

本发明属于有机化合物合成领域，具体涉及一种取代脲类化合物的合成方法。

背景技术

脲及脲类衍生物在天然有机化合物和药物化学中有着重要的应用，通过对分子中脲类化合物的氮原子加以修饰从而得到不同用途的化合物，此类化合物在医药、农药、材料、组合化学以及在催化剂方面有着广泛的应用。

目前，制备脲类衍生物的方法主要是通过胺和光气或市售异氰酸酯制备，虽然这类原料都具有毒性、危险性比较高等特点，但在工业化中仍在广泛使用。

三氯氢硅是重要的有机硅单体，主要用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成，是生产有机硅烷偶联剂和多晶硅的主要原料、是氯碱企业平衡氯碱的一个主要耗氯产品。同时也是一种氢源，常用于亚胺、烯胺、酮、不饱和双键的还原，制备手性胺、手性醇等化合物。但目前并未被作为氢源用于制备脲类衍生物。

发明内容

本发明的目的是提供一种取代脲类化合物的合成方法，解决了现有方法采用光气或异氰酸酯较危险的问题，其底物毒性相对较小，反应条件温和。

为了达到上述目的，本发明提供了一种取代脲类化合物的合成方法，该方法采用以下合成路线：

将醛、N-芳基脲、三氯氢硅和路易斯碱于有机溶剂中在-20℃～室温搅拌反应，后处理，得到取代脲类化合物；所述醛和N-芳基脲的摩尔比为1：(1～2)；所述醛和路易斯碱的摩尔比为1：(0.01～5)；所述醛和三氯氢硅的摩尔比为1：(1～2)。

其中，R₁为C₁～C₅的饱和烷基、无取代或取代芳香环；R₂为H、吸电子取代基或供电子取代基。

优选地，所述无取代或取代芳香环包含：无取代或取代苯基、无取代或取代萘基、无取代或取代富电子五元杂环、烯基；所述供电子取代基包含：烷氧基、C₁～C₅的饱和烷基；所述吸电子取代基包含：卤代、氰基、硝基、酯基。

优选地，所述取代苯基包含：4-取代苯基；所述取代富电子五元杂环包含：5-取代富电子五元杂环；所述烯基包含：苯乙烯基。

优选地，所述富电子五元杂环包含：呋喃环、噻吩环。

优选地，所述富电子五元杂环包含：5-苯基取代的呋喃环和噻吩环。具体地，可以为其中，R包含：酯基。

优选地，所述取代包含：卤代、烷氧基、C₁～C₅的饱和烷基、氰基、硝基、酯基。

优选地，所述卤代包含：氯代、溴代、氟代；所述烷氧基包含：甲氧基、乙氧基；所述C₁～C₅的饱和烷基包含：甲基、乙基等。

优选地，所述路易斯碱包含：HMPA、DMF和吡啶中的任意一种。

优选地，所述反应时间为2～25h；所述有机溶剂包含：二氯甲烷、甲苯、乙腈和氯仿中任意一种。