[发明专利]一种显示面板及显示面板制程方法

说明书

本申请实施例提供一种显示面板及显示面板的制程方法，本申请实施例显示面板，包括玻璃基板和衍膜层，玻璃基板具有相对设置的第一面以及第二面所述衍膜层外包裹形变层，所述形变层和所述衍膜层蒸镀形成在所述玻璃基板的第一面，所述形变层冷胀热缩，开口区形成在所述衍膜层。本申请实施例可以实现提高显示面板的品质。

技术领域

本申请涉及面板制造技术领域，特别涉及一种显示面板及显示面板制程方法。

背景技术

OLED作为新一代的固态自发光显示技术，相较于液晶显示具有超薄、响应度高、对比度高、功耗低等优势，近几年产业化速度突飞猛进。三星、LG已经把AMOLED显示屏应用于自家的智能手机上，获得了非常好的市场。目前OLED主流的制备技术和方法是蒸镀法，即在真空腔体内加热有机小分子材料，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属光罩的开孔沉积在玻璃基板上。然后通过在封装手套箱体内用玻璃或金属后盖涂布胶框的封装方式完成对OLED器件的密封。

目前蒸镀方式，因为衍膜存在一定厚度，容易产生阴影，当随着衍膜解析度越来越来越高，蒸镀材料越来越多，阴影与像素宽度越来越接近，此时会导致像素发光面积受到影响，影响面板整体亮度，造成品质下降。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板及显示面板制程方法。可以提高显示面板的品质。

本申请实施例提供一种显示面板，包括：

玻璃基板，具有相对设置的第一面以及第二面；

衍膜层，所述衍膜层外包裹形变层，所述形变层和所述衍膜层蒸镀形成在所述玻璃基板的第一面，所述形变层冷胀热缩；

开口区，形成在所述衍膜层。

在一些实施例中，所述形变层采用的材料为锑、铋、镓其中任一种。

在一些实施例中，所述衍膜层的厚度为100纳米至40微米。

在一些实施例中，所述形变层通过正反溅射、蒸镀、电泳以及粘贴其中任一种方式将所述形变层包裹在所述衍膜层外侧。

在一些实施例中，所述衍膜层采用的材料为铁镍钴合金。

本申请实施例还提供一种显示面板制程方法，包括如下步骤：

提供一玻璃基板，所述玻璃基板具有相对设置的第一面以及第二面；

将冷胀热缩的形变层包裹在衍膜层上；

将衍膜层和形变层蒸镀形成到所述玻璃基板的第一面；

在所述衍膜层和形变层蚀刻形成开口区。

在一些实施例中，所述形变层通过正反溅射、蒸镀、电泳以及粘贴其中任一种方式将所述形变层包裹在所述衍膜层外侧。

在一些实施例中，所述衍膜层的厚度为100纳米至40微米。

在一些实施例中，所述形变层采用的材料为锑、铋、镓其中任一种。

在一些实施例中，所述衍膜层采用的材料为铁镍钴合金

本申请实施例中提供显示面板，本申请实施提供的显示面板包括玻璃基板和衍膜层，玻璃基板具有相对设置的第一面以及第二面，衍膜层所述衍膜层外包裹形变层，所述形变层和所述衍膜层蒸镀形成在所述玻璃基板的第一面，所述形变层冷胀热缩，开口区形成在所述衍膜层。因为形变层冷胀热缩，将形变层和衍膜层蒸镀形成到玻璃基板的时候，形变层遇热收缩，从而使得衍膜层和形变层在开口区内形成的影响区域减小。同时，因为衍膜层和形变层两层叠加，因此使得衍膜层的强度增大。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。