[发明专利]彩膜基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；

采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影错开；

基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构；

其中，所述遮光板在所述透明衬底上的正投影覆盖所述黑矩阵图形在所述透明衬底上的正投影；

在所述透明衬底的第二表面上形成所述第二对位图形的过程包括：将与所述第一对位图形的结构相同的目标图形作为掩膜，并基于所述目标图形在所述透明基板的第二表面上形成所述第二对位图形。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，包括：

在所述透明衬底的第二表面上形成第二遮光胶层；

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并对所述第二遮光胶层进行曝光；

对曝光后的第二遮光胶层进行显影，在所述透明衬底的第二表面上形成所述第二对位图形。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用目标掩膜板和曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第二表面之间，所述目标掩膜板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上的遮光图形和透光图形，所述遮光图形的结构与所述第一对位图形的结构相同，所述透光图形的结构与所述黑矩阵图形的结构相同。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第一表面之间。

5.根据权利要求2至4任一所述的方法，其特征在于，所述第二遮光胶层为负性胶层。

6.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构，包括：

在所述透明衬底的第二表面上依次形成反光层和第三遮光胶层；

基于所述第二对位图形，对所述反光层和所述第三遮光胶层进行图形化处理，形成所述光栅结构。

7.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形，包括：

在所述透明衬底的第一表面上形成第一遮光胶层；

对所述第一遮光胶层进行图形化处理，形成所述黑矩阵图形和所述第一对位图形。

8.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形之后，所述方法还包括：

在所述黑矩阵图形和所述第一对位图形上形成第一保护层；

基于所述第一对位图形，在所述第一保护层上形成彩色滤光片；

基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构之后，所述方法还包括：

在所述光栅结构上形成第二保护层。

9.一种彩膜基板，其特征在于，包括：由权利要求1至8任一所述的方法制造出的彩膜基板；

所述彩膜基板包括：透明衬底，位于所述透明衬底的第一表面上的黑矩阵图形和第一对位图形，以及位于所述透明衬底的第二表面上的第二对位图形和光栅结构；

其中，所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影错开；

在所述透明衬底的第二表面上形成所述第二对位图形的过程包括：将与所述第一对位图形的结构相同的目标图形作为掩膜，并基于所述目标图形在所述透明基板的第二表面上形成所述第二对位图形。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：显示基板和权利要求9所述的彩膜基板，所述显示基板位于靠近所述彩膜基板的第一表面的一侧。