[发明专利]表面声波装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910918333.5 申请日: 2019-09-26
公开(公告)号: CN112217489A 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 施政宏;林政帆 申请(专利权)人: 颀邦科技股份有限公司
主分类号: H03H9/02 分类号: H03H9/02
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张琳
地址: 中国台湾新竹科学*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 声波 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种表面声波装置,其特征在于,其包含:

压电基板,具有底板、导接垫及电极单元,该导接垫及该电极单元设置于该底板,该导接垫电性连接该电极单元;

支撑层,设置于该压电基板并围绕该电极单元,下成形孔及开孔形成于该支撑层,该下成形孔位于该开孔的外侧,该下成形孔显露该导接垫,该开孔位于该电极单元上方;

罩盖层,设置于该支撑层并罩盖该开孔,上成形孔形成于该罩盖层,该上成形孔位于该下成形孔上方并连通该下成形孔,其中该上成形孔具有第一上开口、第一下开口及第一侧开口,该第一上开口位于该罩盖层的上表面,该第一下开口位于该罩盖层的下表面,该第一侧开口位于该罩盖层的一侧面,该第一侧开口的两端分别连接该第一上开口及该第一下开口;以及

柱状凸块,设置于该下成形孔及该上成形孔,该柱状凸块连接该导接垫,其中位于该罩盖层的该柱状凸块具有第一部及第二部,该第一部位于该上成形孔内,该第二部由该上成形孔的该第一侧开口凸出于该罩盖层的该侧面。

2.根据权利要求1所述的表面声波装置,其特征在于:其中位于该支撑层的该柱状凸块具有第三部及第四部,该第三部连接该第一部,该第四部连接该第二部,该第三部及该第四部位于该下成形孔内。

3.根据权利要求1所述的表面声波装置,其特征在于:其中该下成形孔具有第二上开口、第二下开口及第二侧开口,该第二上开口位于该支撑层的上表面,该第二下开口位于该支撑层的下表面,该第二侧开口位于该支撑层的侧面,且该第二侧开口的两端分别连接该第二上开口及该第二下开口。

4.根据权利要求3所述的表面声波装置,其特征在于:其中位于该支撑层的该柱状凸块具有第三部及第四部,该第三部连接该第一部并位于该下成形孔内,该第四部连接该第二部并由该下成形孔的该第二侧开口凸出于该支撑层的该侧面。

5.根据权利要求1所述的表面声波装置,其特征在于:其另包含接合件,该接合件设置于该柱状凸块的顶面,该接合件借由该柱状凸块电性连接该导接垫。

6.根据权利要求1所述的表面声波装置,其特征在于:其中该压电基板另具有保护层,该保护层覆盖该电极单元并显露该导接垫。

7.根据权利要求1所述的表面声波装置,其特征在于:其中该支撑层的高度大于该电极单元的高度。

8.一种表面声波装置的制造方法,其特征在于,其包含:

提供压电基板,该压电基板具有底板、导接垫及电极单元,该导接垫及该电极单元设置于该底板,该导接垫电性连接该电极单元;

形成支撑层于该压电基板;

图案化该支撑层,使下成形孔及开孔形成于该支撑层,该下成形孔位于该开孔的外侧并显露该导接垫,该开孔位于该电极单元上方,其中图案化后的该支撑层围绕该电极单元;

形成罩盖层于该支撑层,该罩盖层罩盖该开孔;

图案化该罩盖层,使上成形孔形成于该罩盖层,该上成形孔位于该下成形孔上方并连通该下成形孔,其中该上成形孔具有第一上开口、第一下开口及第一侧开口,该第一上开口位于该罩盖层的上表面,该第一下开口位于该罩盖层的下表面,该第一侧开口位于该罩盖层的侧面,该第一侧开口的两端分别连接该第一上开口及该第一下开口;

形成光阻层于该罩盖层;

图案化该光阻层,使开口形成于该光阻层,该开口连通该上成形孔;

形成柱状凸块,该柱状凸块形成于该下成形孔及该上成形孔且连接该导接垫;以及

移除该光阻层;

其中位于该罩盖层的该柱状凸块具有第一部及第二部,该第一部位于该上成形孔内,该第二部由该上成形孔的该第一侧开口凸出于该罩盖层的该侧面。

9.根据权利要求8所述的表面声波装置的制造方法,其特征在于:其中位于该支撑层的该柱状凸块具有第三部及第四部,该第三部连接该第一部,该第四部连接该第二部,该第三部及该第四部位于该下成形孔内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于颀邦科技股份有限公司,未经颀邦科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910918333.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top