[发明专利]一种用于渗氮基体上制备结合性能良好喷涂层的方法

权利要求书

1.一种用于渗氮基体上制备结合性能良好喷涂层的方法，其特征在于，通过磨削基体上渗氮层或基体表面织构化处理或磨削基体渗氮层和基体表面织构化处理共同处理以提高基体表面粗糙度来增强超音速等离子Ni基喷涂层结合强度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，磨削渗氮层的厚度为0～400μm。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，渗氮层完全磨削掉，即磨削深度400μm可以获得质量良好的离子喷涂层。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基体表面织构化处理是通过激光加工设备进行基体表面织构化处理，激光功率为0～20W。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基体表面织构化处理为圆形织构图案，其中织构的直径及相邻织构之间的距离分别为50μm和75μm。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，激光功率为10W且磨削深度400μm时结合强度最大。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，Ni基喷涂层为超音速等离子喷涂设备在上述基体上制备一层厚度约为200μm的Ni60喷涂层。