[发明专利]气闸室平衡系统在审
申请号: | 201910905864.0 | 申请日: | 2019-09-24 |
公开(公告)号: | CN112635371A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 虞凌霄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气闸 平衡 系统 | ||
本发明涉及一种气闸室平衡系统,包括:逆止阀组件,用于控制连接气闸室与大气的平衡管道内气体向远离气闸室的方向单向流动;压力监测系统,用于监测气闸室内压力值的变化是否异常。通过逆止阀组件使得平衡管道内的气体均向远离气闸室的方向单向流动,因此当气闸室内压力检测失真导致平衡阀打开后,如果气闸室内的腔体压力值实际上小于外界压力值,通过平衡管道灌入气闸室的气流会被逆止阀组件阻断,从而减少气体回灌导致的微尘进入气闸室的情况,通过检测打开平衡阀后的气闸室的腔体压力值,能够及时发现压力检测失真从而进行维修调整,使得在新一轮工作中压力正常检测,通过上述技术方案,能够有效减少压力回灌现象,降低产品报废几率。
技术领域
本发明涉及半导体设备,特别是涉及一种气闸室平衡系统
背景技术
在半导体生产过程中,每步工序完成后,晶圆会由真空环境传输至大气中,因此会设置气闸室作为小气压区域和大气压区域的中转站,当气闸室内的压力达到大气压区域气压值时,会连通气闸室与大气压区域,确保闸门开启时不会有压力差。
在现有技术中至少存在如下问题,如果气闸室内的压力检测失真,会导致设备系统误判断气闸室已经达到了大气压区域气压值的状态,而使气闸室与大气压区域连通,产生压力回灌现象,容易导致微尘进入气闸室内,造成晶圆缺陷,降低了生产良率。
发明内容
基于此,有必要针对压力检测失真导致带有微尘的空气回灌至气闸室的问题,提供一种气闸室平衡系统,其具有减少压力回灌现象,降低产品报废几率的效果。
一种气闸室平衡系统,包括:
逆止阀组件,包括安装在连接气闸室与大气的平衡管道上的第一逆止阀,第一逆止阀阻止外部气体通过平衡管道流向气闸室。
上述气闸室平衡方法,通过逆止阀组件使得平衡管道内的气体均向远离气闸室的方向单向流动,因此当气闸室内压力检测失真导致气闸室与外界气压连通后,如果气闸室内的腔体压力值实际上小于外界压力值,通过平衡管道灌入气闸室的气流会被逆止阀组件阻断,从而减少气体回灌导致的微尘进入气闸室的情况通过上述技术方案,能够有效减少压力回灌现象,降低产品报废几率。
在其中一个实施例中,
所述逆止阀组件还包括过滤器,所述过滤器安装在所述平衡管道上,用于过滤通过所述平衡管道的气体。
通过上述技术方案,使得机台较低位置的空气即使进入平衡管道内也经过了过滤器的过滤,减少微尘进入气闸室的可能性。
在其中一个实施例中,所述过滤器可拆卸的固定连接在所述平衡管道上。
通过上述技术方案,工作人员可以定期更换过滤器,从而保障过滤器的过滤效果。
在其中一个实施例中,所述逆止阀组件还包括至少一个排气管道,所述排气管道与平衡管道连通,所述排气管道与所述平衡管道的连接点位于所述第一逆止阀远离所述气闸室的一侧。
通过上述技术方案,使得瞬间涌入平衡管道的空气直接从排气管道排出,减少第一逆止阀所承受的力。
在其中一个实施例中,所述排气管道上安装有第二逆止阀,所述第二逆止阀用于控制所述排气管道内的气流沿平衡管道向远离所述气闸室的方向流动。
使得排气管道只起到排气作用,外界脏污空气不会从排气管道进入平衡管道中,从而不易使得未过滤的气体接触到第一逆止阀,减少微尘进入气闸室的可能性。
在其中一个实施例中,所述气闸室平衡系统包括平衡阀,所述平衡阀安装在所述平衡管道上。
在其中一个实施例中,所述平衡阀安装在所述气闸室与所述第一逆止阀之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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