[发明专利]一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统及其工作方法在审

专利信息
申请号: 201910898390.1 申请日: 2019-09-23
公开(公告)号: CN110609453A 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 黄胜洲;王雷;刘有余;梁艺;尚正阳;鞠锦勇;苏永生;方明 申请(专利权)人: 安徽工程大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05B33/08
代理公司: 32243 南京正联知识产权代理有限公司 代理人: 胡定华
地址: 24100*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 控制系统 曝光光源 光刻 直写 数字微镜器件芯片 脉宽调制发生器 数据控制技术 温度传感器 开关电源 散热部件 有效控制 控制板 无掩模 掩模 灵活
【权利要求书】:

1.一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:包括UV-LED芯片、LED恒流驱动板、脉宽调制发生器、数字微镜器件芯片和数字微镜器件控制板,所述UV-LED芯片与LED恒流驱动板正负极连接,所述脉宽调制发生器的PWM端口及GND端口与LED恒流驱动板的PWM端口及GND端口分别相连,所述脉宽调制发生器的正极与LED恒流驱动板的EN端连接,所述数字微镜器件控制板的信号输出端口连接在脉宽调制发生器的正极与LED恒流驱动板的EN端之间,所述脉宽调制发生器的地线连接在数字微镜器件控制板上,所述数字微镜器件芯片与数字微镜器件控制板连接。

2.如权利要求1所述的一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:所述控制系统还包括开关电源,所述开关电源的正极及地线分别于LED恒流驱动板连接。

3.如权利要求1所述的一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:所述UV-LED芯片上连接有温度传感器,通过温度传感器对UV-LED芯片工作的温度进行检测。

4.如权利要求1所述的一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:所述UV-LED芯片、LED恒流驱动板和数字微镜器件控制板上连接有散热部件,通过散热部件进行散热。

5.如权利要求1所述的一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:所述UV-LED芯片采用面阵列式的灯珠结构。

6.如权利要求4所述的一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:所述UV-LED芯片上的散热部件采用沟槽式结构。

7.如权利要求1所述的一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:所述脉宽调制发生器的工作电压为5V或3.3V。

8.如权利要求1所述的一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统,其特征在于:所述数字微镜器件控制板的输出端与脉宽调制发生器通过BNC转接头进行转接。

9.一种如权利要求1-8任意一项所述的用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统的工作方法,其特征在于:所述工作方法步骤如下:

S1、将待曝光的一系列数据图片帧通过控制软件导入到数字微镜器件控制板中;

S2、分别设置好待曝光的一系列数据图片帧的曝光时间、图片间隔等参数;

S3、点击软件开始曝光按钮,相应的数字微镜器件芯片上显示曝光的图形序列;

S4、数字微镜器件芯片显示图形的同时,会导通脉宽调制发生器,观察UV-LED芯片的发光情况;

S5、根据曝光工艺的需求,进行脉宽调制发生器的调节来满足UV-LED芯片输出光强的大小。

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