[发明专利]一种显示面板及其制造方法和显示终端有效
申请号: | 201910893108.0 | 申请日: | 2019-09-20 |
公开(公告)号: | CN110610974B | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 李骄阳;袁波 | 申请(专利权)人: | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人: | 李浩 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制造 方法 终端 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板;
位于所述基板一侧的像素限定层,所述像素限定层上设置有多个凹槽;
多个子像素,用于显示发光,所述子像素设置于所述凹槽中;
位于所述多个子像素上的且与所述多个子像素一一对应的多个应力缓冲部;
位于所述多个应力缓冲部之上的阴极层;以及
位于所述阴极层之上的封装层;
其中,所述应力缓冲部位于所述凹槽中,所述应力缓冲部间隔设置,且所述多个应力缓冲部呈阵列分布。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述多个应力缓冲部与所述多个子像素在所述基板上的正投影重合。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述应力缓冲部的厚度小于等于50nm。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述凹槽的深度大于所述子像素的厚度,所述应力缓冲部也位于所述凹槽中,所述多个应力缓冲部与所述像素限定层形成一个完整的平面。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述多个凹槽呈阵列分布。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述应力缓冲部的材料的透光率大于等于90%。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述应力缓冲部为记忆应力缓冲部,所述记忆应力缓冲部构造为缓冲应力并且在所述显示面板受到冲击后的预设时间内可以恢复初始状态。
8.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:
制备基板;
在所述基板的一侧制备像素限定层;
在所述像素限定层上开设多个凹槽;
在所述凹槽内制备子像素;
在多个所述子像素上制备多个应力缓冲部,所述多个应力缓冲部与多个所述子像素一一对应;
在所述多个应力缓冲部之上制备阴极层;以及
在所述阴极层之上制备封装层;
其中,所述应力缓冲部位于所述凹槽中,所述应力缓冲部间隔设置,且所述多个应力缓冲部呈阵列分布。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制造方法,其特征在于,
所述在所述凹槽内制备子像素包括:
制备掩膜版,所述掩膜版包括多个开口,所述多个开口与所述多个凹槽一一对应;以及
使用所述掩膜版,蒸镀多个所述子像素;
所述在多个所述子像素的上制备多个应力缓冲部,所述多个应力缓冲部与多个所述子像素一一对应包括:
使用所述掩膜版,在多个所述子像素的上蒸镀所述多个应力缓冲部,所述多个应力缓冲部与多个所述子像素在所述基板上的正投影重合。
10.一种显示终端,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的