[发明专利]一种加热器、加热方法及等离子处理器

权利要求书

1.一种加热器，应用于等离子处理器中，其特征在于，包含：

绝缘结构，其为内部开设内孔的闭合的柱状结构，该内孔壁上预加工有目标结构的导向槽；

加热结构，设置在所述导向槽内，通过所述导向槽将所述加热结构导向为目标结构；

预加工的导向槽的目标结构与未经导向时的所述加热结构相适配；

拉伸后的加热结构放入所述绝缘结构的内孔，松开所述加热结构，所述加热结构进入具有目标结构的所述导向槽内，通过所述导向槽将所述加热结构导向为目标结构。

2.如权利要求1所述的加热器，其特征在于，

所述导向槽是与所述加热结构相匹配的螺旋状，所述加热结构最终的目标结构是与所述导向槽一致的螺旋状。

3.如权利要求2所述的加热器，其特征在于，

螺旋状的导向槽的各个螺距均相等，目标结构状的加热结构的各个螺距均相等且与导向槽的螺距相等。

4.如权利要求2所述的加热器，其特征在于，

螺旋状的导向槽的至少两个螺距之间相等，目标结构状的加热结构的至少两个螺距之间相等且与导向槽的各螺距对应相等。

5.如权利要求1所述的加热器，其特征在于，

所述加热器为管状结构。

6.如权利要求1所述的加热器，其特征在于，

所述绝缘结构为氧化镁柱，所述加热结构为加热丝。

7.如权利要求6所述的加热器，其特征在于，

所述加热丝与电源连接，通过电源为其供电加热。

8.如权利要求1或5或6所述的加热器，其特征在于，

所述绝缘结构的外侧设有管状的外壳保护层。

9.如权利要求8所述的加热器，其特征在于，

所述外壳保护层为金属外壳。

10.一种基于如权利要求1-9任意一项所述的加热器的加热方法，其特征在于，该方法包含以下过程：

绝缘结构内部开设内孔，在内孔壁上预加工出目标结构的导向槽；

将加热结构拉伸后，放入所述绝缘结构的内孔，并松开所述加热结构；所述加热结构进入所述导向槽内，通过所述导向槽将所述加热结构导向为目标结构。

11.如权利要求10所述的加热方法，其特征在于，

所述导向槽是与所述加热结构相匹配的螺旋状，所述加热结构最终的目标结构是与所述导向槽一致的螺旋状；

螺旋状的导向槽的各个螺距均相等，目标结构状的加热结构的各个螺距均相等且与导向槽的螺距相等。

12.一种等离子处理器，其特征在于，包含一反应腔，所述反应腔内设置一静电夹盘，用于支撑晶片，所述静电夹盘下方设置基座，用于承载所述静电夹盘，所述反应腔上部设有气体喷淋装置，所述气体喷淋装置与气体供应装置相连，所述气体供应装置中的反应气体经过气体喷淋装置进入反应腔，所述等离子处理器中的待加热部件通过如权利要求1-9任意一项所述的加热器进行温度控制，使得待加热部件达到目标温度。

13.如权利要求12所述的等离子处理器，其特征在于，

所述待加热部件为所述气体喷淋装置；

和/或，所述待加热部件为所述静电夹盘和/或所述基座。

14.如权利要求12或13所述的等离子处理器，其特征在于，

所述气体喷淋装置包含安装基板和气体喷淋头，所述气体喷淋头连接在所述安装基板下部，所安装基板内侧设有气体缓冲部件，所述加热器设置在所述气体缓冲部件的外侧壁与所述安装基板的内侧壁之间；

和/或，所述加热器设置在所述基座和所述静电夹盘之间。