[发明专利]一种二维碘化铅薄片的制备方法及应用

权利要求书

1.一种二维碘化铅薄片的制备方法，其特征在于，具体步骤包括：

（1）对基底进行清洗处理；

（2）将定量的过饱和碘化铅水溶液滴加在清洗处理后的基底上；

（3）将步骤（2）的基底在旋涂机上以一定的转速旋涂，然后干燥，得到尺寸为过百微米的二维碘化铅薄片；其中，旋涂速度为100r/min~3000r/min，旋涂时间为5s~30s，干燥的温度为5℃~60℃。

2.根据权利要求1所述的一种二维碘化铅薄片的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中，基底为硅片、玻璃或者PET膜。

3.根据权利要求1所述的一种二维碘化铅薄片的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中，采用氧离子清洗工艺进行清洗。

4.根据权利要求3所述的一种二维碘化铅薄片的制备方法，其特征在于，氧离子清洗的功率为10W~700W。

5.根据权利要求3所述的一种二维碘化铅薄片的制备方法，其特征在于，氧离子清洗的时间为5s~600s。

6.根据权利要求1所述的一种二维碘化铅薄片的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）中，过饱和碘化铅水溶液的用量为5μL~800μL。

7.利用权利要求1制备的二维碘化铅薄片的应用，其特征在于，所述二维碘化铅薄片作为光电探测器的光敏感功能层。