[发明专利]一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法

权利要求书

1.一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，包如下步骤：

F1)根据测厚仪扫描周期设定单个矩形刻槽的刻印周期，设定刻槽的宽度、长度和单次横向刻槽群的刻槽数M，随机选择t0值；

F2)从t0时刻开始刻印刻槽群，刻槽群中每个矩形刻槽的刻印周期为Tr，且Tr＝Tq/k，其中，刻槽群周期Tq取值使得测厚仪单程从一边移动到另一边的时间等于Tq的整数倍；

F3)获取测厚仪的剖面曲线，判断是否检测到刻槽？如果是则转下一步F4，否则等待；

F4)判断在一个刻槽群刻印周期Tq内，是否仅检测到两个不同深度的刻槽？如果是则转下一步F5，否则转F6；

F5)提取被连续检测到的两个刻槽的深度值，判断第一刻槽深度是否大于第二刻槽深度？如果是，则将每周期的刻印开始时刻提前：t0＝t0-t1，否则，将每周期的刻印开始时刻推后：t0＝t0+t2，其中，t1和t2均小于Tq/2；然后，转步骤F2，重复开始一次刻槽群的刻印；

F6)同步完成，结束。

2.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，所述步骤F2)包括以下处理：

F21)初始工位准备，从t0时刻开始刻印第一个刻槽，记录下开始时刻t0＝t；

F22)刻槽深度按增量增加，在与上一工位横向和纵向上均相邻的新工位上刻印矩形刻槽；

F23)判断M个刻槽是否均已刻印完毕？如果是转下一步s5，否则转s3。

3.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，所述刻槽的深度线性增加，每次增加一个相同的量，M个刻槽叠加后从正面看形成一个直线斜坡。

4.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，所述刻槽的深度非线性增加，每次增加量逐步减小，M个刻槽叠加后从正面看形成一个倒抛物线斜坡。

5.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，所述矩形刻槽的宽度dx和深度增量dz分别为印记整体宽度Lx和深度Lz的1/k，而其长度dy则可以选择为：

使得相邻矩形刻槽在纵向上相邻或部分重合，从而使得同步后测厚仪能连续检测到矩形刻槽；其中，Vy为薄膜纵向移动速度，Vx为刻槽群中刻槽印记横向来回移动速度进行。

6.根据权利要求2所述的一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，所述步骤F22中刻槽深度线性增加，每次增加一个相同的量，且使得最大刻槽深度为所刻印铸片厚度的0.05至0.1倍。

7.根据权利要求2所述的一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，所述步骤F22中刻槽深度按倒抛物线非线性增加，且使得最大刻槽深度为所刻印铸片厚度的0.05至0.1倍。

8.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法，其特征在于，假设所检测到的刻槽的深度对应为M个序列中的第p个，则所述t1即时间提前量和t2即推后量均可按下式计算：