[发明专利]工件、工件的制备方法、壳体以及电子设备

权利要求书

1.一种工件，其特征在于，包括基材，所述基材表面具有至少一个渐变防眩光区域；所述渐变防眩光区域中的基材的光泽度沿着所述渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低；所述渐变防眩光区域中的基材的雾度和粗糙度，分别沿着所述至少一个预设方向升高。

2.根据权利要求1所述的工件，其特征在于，当所述基材为透明或者半透明的材料时，所述渐变防眩光区域中的基材的可见光透过率，沿着所述渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低。

3.根据权利要求1或2所述的工件，其特征在于，所述渐变防眩光区域中设有第一预设图案，所述第一预设图案包括多个第一区域，所述多个第一区域的排布密度沿着所述至少一个预设方向升高，所述第一区域中的所述基材的表面为粗糙表面。

4.根据权利要求3所述的工件，其特征在于，0＜R≤0.05mm，0＜k≤5R；其中，R表示所述第一区域的尺寸；k表示沿着一个预设方向，相邻的所述第一区域之间的间隔距离。

5.根据权利要求3或4所述的工件，其特征在于，在第二区域中的所述基材的表面为光滑表面；其中，所述第二区域为所述渐变防眩光区域中除所述第一预设图案以外的区域。

6.根据权利要求1-5任一项所述的工件，其特征在于，所述基材的材料包括玻璃、塑料和陶瓷中的一种或多种。

7.一种工件的制备方法，其特征在于，包括：

在基材的至少一个表面设置保护层；其中，所述基材表面的未设置所述保护层的区域形成第一预设图案，所述第一预设图案包括多个第一区域，所述多个第一区域的排布密度沿着至少一个预设方向升高；

在所述基材表面的未形成所述保护层的区域进行蒙砂或者喷砂；

对蒙砂或者喷砂后的所述基材表面的未形成所述保护层的区域进行化学抛光；

去除所述保护层，得到所述工件。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，0＜R≤0.05mm，0＜k≤5R；其中，R表示所述第一区域的尺寸；k表示沿着一个预设方向，相邻的所述第一区域之间的间隔距离。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，在基材的至少一个表面设置保护层的步骤，包括：

在所述基材的至少一个表面形成光阻层；

对所述光阻层曝光、显影，形成所述保护层。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，当所述光阻层采用负光阻材料时，对所述光阻层曝光、显影，形成所述保护层的步骤包括：

在所述光阻层上设置光罩；其中，所述光罩的遮光层具有第二预设图案，所述第二预设图案与所述第一预设图案相同；

将所述基材表面的光阻层与所述光罩进行曝光；

显影去除所述光阻层的未被曝光的区域，形成所述保护层。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述光阻层的厚度为2～5μm。

12.根据权利要求7-11任一项所述的方法，其特征在于，在所述基材表面的未形成所述保护层的区域进行蒙砂或者喷砂的步骤之前，还包括：

在所述基材的非加工表面贴设保护膜。

13.根据权利要求7-12任一项所述的方法，其特征在于，所述基材为透明、半透明或者不透明的材料。

14.根据权利要求7-13任一项所述的方法，其特征在于，所述基材的材料包括玻璃、塑料和陶瓷中的一种或多种。

15.一种壳体，其特征在于，包括至少一个权利要求1-6任一项所述的工件，所述壳体上还设置有装饰件或者辅料。